Tytuł artykułu
Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
Ion sputtering method of microparticle environmental contamination
Języki publikacji
Abstrakty
Przedstawiono nową metodę analizy profilowej mikrocząstek pyłów zanieczyszczających środowisko. Metoda opiera się na zastosowaniu spektrometrii mas jonów wtórnych (SIMS) w trakcie trawienia jonowego mikrocząstek zebranych z atmosfery i umieszczonych na specjalnie przygotowanej matrycy. Istotą metody jest fakt bombardowania matrycy pod kątem 45° i jednocześnie przy zmiennym w czasie kącie azymutalnym wiązki trawiącej. Proces erozji trawionej powierzchni mikrocząstek symulowany był metodą elementów skończonych za pomocą oprogramowania ANSYS. Przedstawiono także wyniki eksperymentalne zastosowania metody obrotu próbki w trakcie analizy profilowej mikrocząstek pyłów zanieczyszczających pomieszczenia Huty Szkła Thomson Polkolor.
A new method of microparticle depth profile analysis, based on application of sample rotation technique in secondary ion mass speetrometry (SIMS) analysis, is described. The method is based on ion bombardment of a matrix with microparticles, previously collected from the atmosphere. Sample rotation technique i.e. ion sputtering with application of variable azimuth incidence angle of the primary beam, is performed in order to reduce shadowing effect and to obtain morę uniform erosion of the atomie layers of the microparticles. Finite element method was applied for ANSYS simulation of ion erosion of spherical particles. Experimental results were obtained on microparticles collected in Thomson Polkolor Glass Works.
Wydawca
Rocznik
Tom
Strony
14--19
Opis fizyczny
Bibliogr. 14 poz., wykr.
Twórcy
autor
- Instytut Technologii Próżniowej, Warszawa
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWA9-0004-0052
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.