Grubowarstwowe pasty rezystywne oparte na krzemku tytanu TiSi2

• Autorzy: Szwagierczak D. , Marek A. , Gandurska J. , Kulawik J. , Śnieżyńska I.

Warianty tytułu

EN

Thick film resistive pastes based on titanium silicide TiSi2

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Opracowano grubowarstwowe pasty rezystywne oparte na krzemku tytanu TiSi2, wypalane w powietrzu lub azocie, charakteryzujące się rezystywnością w zakresie 0,05-250. Pasty otrzymano mieszając 10-90% wag. TiSi2 (20-85% obj.), 0-80% wag. Pd-Ag (0-65 % obj.), szkliwo oraz nośnik organiczny.

EN

Thick film resistive pastes based on titanium silicide TiSi2 with resistivities in the range 0.05 - 250 were developed, heated in air or in nitrogen. The pastes were prepared by mixing 10-90 wt.% TiSi2 (20-85 vol.%), 0-80 wt.% Pd-Ag (0-65 vol.%), glass and organie binder.

Słowa kluczowe

PL

pasty rezystywne; metodyka badań; dobór szkliwa

EN

resistive pastes; methodics of research; selection of glass

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 1999
• Tom: Vol. 40, nr 10
• Strony: 10--13
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., tab., wykr.

Twórcy

autor

Szwagierczak D.

autor

Marek A.

autor

Gandurska J.

autor

Kulawik J.

autor

Śnieżyńska I.

• Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Mikroelektroniki Hybrydowej i Rezystorów, Kraków