Rozwiązania technologiczne wybranych nowych mikromechanicznych czujników przyspieszenia

Łysko, J.; Stolarski, E.

Artykuł - szczegóły

Tytuł artykułu

Rozwiązania technologiczne wybranych nowych mikromechanicznych czujników przyspieszenia

Autorzy

Łysko J. , Stolarski E.

Identyfikatory

Warianty tytułu

Acceleration sensors-selected technological solutions

Języki publikacji

Abstrakty

W publikacji zaprezentowano rozwiązania technologiczne nowych mikromechanicznych czujników przyspieszenia. Przedstawiono sposób wykonywania bardzo cienkich, monokrystalicznych warstw krzemowych opracowanych w firmie Nova Sensor. W technologii BESOI, będącej połączeniem mikromechanicznej technologii powierzchniowej i objętościowej, rozwinięto tę metodę. Firma Analog Devices opracowała technologię czujnika przyspieszenia z wykorzystaniem procesu BiCMOS. Głębokie trawienie jonowe D-RIE krzemu zostało zastosowane w technologii czujników firmy STS. Zaprezentowano też dwuetapowe trawienie krzemu opracowane w LPMO-CNRS, pozwalające uzyskiwać monolityczne, struktury czujników o trzech osiach czułości. Opisano wykonywanie warstwy polikrzemu odpowiedniej dla technologii powierzchniowej mikromechaniki, a także technologię czujnika SA30 firmy SensoNor - największego europejskiego producenta akcelerometrów dla motoryzacji. Wreszcie, przedstawiono technologię światłowodowego czujnika przyspieszenia opracowaną w polskich laboratoriach.

New concepts of the silicon accelerometers technologies are presented. Thin monocrystalline silicon layers for the micromechanical applications were developed by the Nova Sensor. BESOI technology brings surface and bulk micromechanics together. Analog Devices applies BiCMOS technology to fabricate highly sophisticated sensors. Deep reactive ion etching was applied by the STS. Two-step silicon etching in KOH solution was developed by the LPMO-CNRS to fabricate 3D monolithic accelerometer chips. Deposition and anealing technology to form the SensoNor and fiberoptic technology from polish laboratories are presented as well.

Słowa kluczowe

technologia BESOI technologia BiCMOS technologia firmy LPMO-CNRS

BESOI technology BiCMOS technology technology of firm LPMO-CNRS

Wydawca

Wydawnictwo SIGMA-NOT

Czasopismo

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

Rocznik

1999

Tom

Vol. 40, nr 5

Strony

13--19

Opis fizyczny

Bibliogr. 10 poz., wykr.

Twórcy

autor

Łysko J.

autor

Stolarski E.

Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa

Bibliografia

Typ dokumentu

Bibliografia

Identyfikator YADDA

bwmeta1.element.baztech-article-BWA9-0004-0027