Tytuł artykułu
Identyfikatory
Warianty tytułu
Vacuum system for molecular beam epitaxy
Konferencja
II Kongres Towarzystwa Próżniowego ; 13-17.05.2001 ; Warszawa, Polska
Języki publikacji
Abstrakty
The construction of the MBE system for growth the semiconductor thin film in the high and ultra high vacuum conditions has been presented. This system consists of mainly technological and loading chambers with technical equipments for operation the epitaxy process. To the pumping of the chambers the turbomolecular with diaphram pumps and the ion pumps are used.
Wydawca
Rocznik
Tom
Strony
102--103
Opis fizyczny
Twórcy
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWA9-0003-0044