Wytwarzanie i właściwości powłok Ti-C:H, W-C:H i Si-C:H

• Autorzy: Czyżniewski A.

Warianty tytułu

EN

Preparation and properties of Ti-C:H, W-C:H and Si-C:H coatings

• Konferencja: II Kongres Towarzystwa Próżniowego ; 13-17.05.2001 ; Warszawa, Polska
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

EN

The X-C:H (X = Ti, W or Si) coatings deposition by pulsed reactive magnetron sputtering was carried out at varying flow rates of acetylene. Results of investigations of the structure and high microhardness (19-23 GPa) of coatings, where the X component content varied from 30 to 40 at. %, revealed their nanocomposite structure. If the X-component concentration is 1—8 at. %, the films will show the lowest friction coefficient (f< 0,05 for Ti-C:H and Si-C:H, f< 0,1 for W-C:H) and high wear resistance.

Słowa kluczowe

PL

mikrotwardość; powłoki Ti-C:H; powłoki W-C:H; powłoki Si-C:H; wytwarzanie; właściwości

EN

microhardness; coverings Ti-C:H; coverings W-C:H; coverings Si-C:H; fabricating; specificity

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2001
• Tom: Vol. 42, nr 8-9
• Strony: 32--35
• Opis fizyczny: Bibliogr. 16 poz., wykr.

Twórcy

autor

Czyżniewski A.

• Politechnika Koszalińska,