Przestrzenny rozkład mikrokropli generowanych przez łukowe źródło plazmy

• Autorzy: Miernik K. , Walkowicz J.

Warianty tytułu

EN

Generated by the ARC plasma source

• Konferencja: Techniki Jonowe. 7 Ogólnopolskie Seminarium ; 28.02-02.03.2001 ; Szklarska Poręba, Polska
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono mechanizmy wpływające na generację aerozolu metalicznego z katody źródła łukowego z zimną katodą. Zaprezentowano rezultaty prac eksperymentalnych uzyskane przy badaniu rozkładu mikrokropli emitowane przez źródła o różnej konstrukcji. Stwierdzono, że rozkład wielkości i ilości kropli zależy przede wszystkim od kształtu emitującej powierzchni katody, czyli od średniego okresu czasu jaki plamka katodowa spędza na danym obszarze powierzchni.

EN

The paper presents the mechanisms that influence generation of the metallic aerosol from the cathode of the arc source with cold cathode. The results of experimental research on the distribution of microdroplets generated by sources of different construction are presented. It was stated that the microdroplet distribution depends first of all on the shape of the emitting cathode surface, thus on average time of the cathode spot residence on a given region of the cathode surface.

Słowa kluczowe

PL

źródła plazmy; emisja; badania eksperymentalne

EN

sources of plasma; emission; experimental research

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2001
• Tom: Vol. 42, nr 7
• Strony: 22--24
• Opis fizyczny: Bibliogr. 18 poz., wykr.

Twórcy

autor

Miernik K.

• Instytut Technologii Eksploatacji, Radom

autor

Walkowicz J.

• Instytut Technologii Eksploatacji, Radom

Bibliografia

• [1] E. Hantzsche, B. Juner. IEEE Transactions on Plasma Science. 13, 1985, 230.
• [2] P. Siemroth. B. Schultrich, T. Schulke: Surface and Coatings Technology, 68, 1994, 314.
• [3] G. W. McClure: J. Appl. Phys. 45(5) (1974) 2078.
• [4] J. Walkowicz, K. Miernik, J. Smolik, J. Bujak. Problemy Eksploatacji 2, (1995), 39.
• [5] R. L. Boxman, S. Goldsmith: Surface and Coatings Technology 52, (1992) 39.
• [6] C. W. Kimblin: Vacuum arc currents and electrode phenomena, Proc. IEEE, 59(4), (1974) 546.
• [7] S. Anders, A. Anders, K. M. Yu, X. Y. Yao, I. G. Brown: IEEE Trans. Plasma Sci. 21(5) (1993) 440.
• [8] И. И Akceʜoв, B. Г. Πaдaπкa, B. T. Toπoк, B. M. Xopoших: Физика плазмы , 6(4), (1980), 918.
• [9] J. E. Daalder. J. Phys. D: Appl. Phys., 9, (1976), 2379.
• [10] J. E. Daalder. Cathode spots and vacuum arcs, Physica, 104C, (1981), 91.
• [11] A. W. Baouchi, A. J. Perry Surface and Coatings Technology, 41 (1991) 253.
• [12] D. A. Karpov, I. F. Kislov, A. I. Ryabchikov, A. A. Ganenko: Surface and Coatings Technology, 89, (1997) 58.
• [13] D. A. Karpov. Surface and Coatings Technology, 96 (1997) 22.
• [14] S. Falabella. D. A. Karpov. Continuous cathodic arc sources, in: R. L. Boxman, P. J. Martin, D. M. Sanders, Handbook of vacuum arc science and technology, Noyes Publ. NJ, 1995.
• [15] K. Miernik. Przegląd Mechaniczny 21, (1997), 18.
• [16] K. Miernik, J. Walkowicz. Surface and Coatings Technology, 125, (2000), 161.
• [17] R. L. Boxman, S. Goldsmith: J. Appl. Phys. 52(1) (1981), 151.
• [18] Z. Cheng, M. Wang, J. Zou: Surface and Coatings Technology, 92, (1997), 50.