Rezystory grubowarstwowe RuO2 + szkoło jako kriogeniczne czujniki temperatury

• Autorzy: Mleczko K. , Żak D. , Kolek A. , Stadler A. W. , Szałański P. , Zawiślak Z.

Warianty tytułu

EN

RuO2 + glass based thick film resistors as cryogenic thermometers

• Konferencja: Technologia elektronowa : ELTE' 2004 : konferencja naukowa (8 ; 19-22.04.2004 ; Stare Jabłonki, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Wykonane w laboratorium rezystory RuO2 + szkło badano pod kątem zastosowań w termometrii niskotemperaturowej. Badania obejmowały stabilność w cyklach chłodzenia od 300 do 77 K oraz pomiary zależności rezystancji od temperatury i pola magnetycznego.

EN

Laboratory-maded thick film RuO2 + glass resistors were tested for the application as low temperature thermometers. Stability in thermal cycles and temperature and magnetic field dependences of resistance were examinated.

Słowa kluczowe

PL

rezystory grobowarstwowe RuO2+szkło; termometry; niskie temperatury

EN

RuO2-glass thick film resistors; thermometers; low temperature

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 2-3
• Strony: 54--55
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., wykr.

Twórcy

autor

Mleczko K.

• Politechnika Rzeszowska, Katedra Podstaw Elektroniki

autor

Żak D.

• Politechnika Rzeszowska, Katedra Podstaw Elektroniki

autor

Kolek A.

• Politechnika Rzeszowska, Katedra Podstaw Elektroniki

autor

Stadler A. W.

• Politechnika Rzeszowska, Katedra Podstaw Elektroniki

autor

Szałański P.

• Politechnika Rzeszowska, Katedra Podstaw Elektroniki

autor

Zawiślak Z.

• Politechnika Rzeszowska, Katedra Podstaw Elektroniki

Bibliografia

• [1] Żak D., Kolek A., Mleczko K., Stadler A. W., Szatański P., Zawiślak Z., Dziedzic A.: 2nd International Seminar and Workshop on Low Temperature Thermometry. 6-8 Oct. 2003, Wrocław, Poland, pp. 158-165.
• [2] Temperature Measurement and Control - katalog firmy Lake Shore.
• [3] Neppert B., Esquinazi P.: Cryogenics, vol. 36, pp. 231-234, 1996.
• [4] Schoepe W.: Physica B, vol. 165&166, pp. 299-300, 1990.
• [5] Bat’ко I., Flachbart K., Somora M., Vanicky D.: Cryogenics, vol. 35, pp. 105-108,1995.
• [6] Willekers R. W., Mathu F., Meijer H. C., Postma H.: Cryogenics, vol. 30, pp. 351-355, 1990.
• [7] Meisel M.W., Stewart G. R., Adams E.D.: Cryogenics, vol. 29, pp. 1168-1169, 1989.
• [8] Uhlig K.: Cryogenics, vol. 35, pp. 525-528, 1995.