Modelowanie dynamiki reaktywnego rozpylania magnetronowego

• Autorzy: Stec A.

Warianty tytułu

EN

Modelling dynamics of magnetron reactive sputtering

• Konferencja: Technologia elektronowa : ELTE' 2004 : konferencja naukowa (8 ; 19-22.04.2004 ; Stare Jabłonki, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono model dynamiki opisujący zależności między podstawowymi wielkościami charakteryzującymi reaktywne rozpylanie, takimi jak prąd i napięcie wyładowania, przepływ i ciśnienie gazu reaktywnego. Wykorzystano statyczne charakterystyki rzeczywistego magnetronu i przyjęto inercyjny charakter zmian wszystkich zmiennych procesowych. Model umożliwia przeprowadzenie analizy skuteczności stosowania metod sterowania prądem, napięciem, przepływem lub ciśnieniem gazu reaktywnego.

EN

The paper presents a dynamic model that describes relations between basic quantities of reactive sputtering, such as current and discharge voltage, flow and pressure of reactive gas. Static characteristics of real magnetron are used and inertial dynamics of all process variabies is assumed. The model permits to determine whether particular control method, i.e. by using current, voltage, flow or pressure of reactive gas, is effective.

Słowa kluczowe

PL

reaktywne rozpylanie; magnetron

EN

reactive sputtering; magnetron

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 2-3
• Strony: 34--35
• Opis fizyczny: Bibliogr. 3 poz., wykr.

Twórcy

autor

Stec A.

• Politechnika Rzeszowska, Wydział Elektroniki i Informatyki

Bibliografia

• 1. Berg S., Blom H-О., Larsson T., Nender C.: J. Vac. Sci. Technol. A, vol. 5. no. 2, pp. 202-207, 1987.
• 2. Thornton J. A.: J. Vac. Sci. Technol., vol. 15, no. 2, pp. 171-177, 1978.
• 3. Stec A.: Prace Naukowe PW Elektronika z. 143, pp. 131-134,2002.