Strukturalne i optyczne właściwości cienkich warstw tlenków tytanu modyfikowanych przez domieszkowanie hafnem

• Autorzy: Domaradzki J. , Prociów E. L. , Kaczmarek D. , Mulak A.

Warianty tytułu

EN

Structural and optical properties of titanium oxide films modified by hafnium

• Konferencja: Technologia elektronowa : ELTE' 2004 : konferencja naukowa (8 ; 19-22.04.2004 ; Stare Jabłonki, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Cienkie warstwy tlenków na bazie Ti-Hf nanoszono na podłoża szklane i szafirowe w procesie rozpylania magnetronowego z reaktywną atmosferą tlenową. Na podstawie badań optycznych wyznaczono zależność szerokości optycznej przerwy zabronionej w funkcji wzajemnej zawartości tytanu i hafnu.

EN

Ti-Hf metal oxide films were deposited on heated glass and sapphire substrates by magnetron sputtering process with reactive atmosphere of oxygen. On the basis of optical measurements the optical band-gap versus Ti/Hf ratio has been estimated.

Słowa kluczowe

PL

cienka warstwa; rozpylanie magnetronowe; tlenek tytanu

EN

thin film; magnetron sputtering; titanium oxide

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 2-3
• Strony: 24--25
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., wykr.

Twórcy

autor

Domaradzki J.

• Politechnika Warszawska, Instytut Mikroelektronniki i Optoelektroniki

autor

Prociów E. L.

• Politechnika Warszawska, Instytut Mikroelektronniki i Optoelektroniki

autor

Kaczmarek D.

• Politechnika Warszawska, Instytut Mikroelektronniki i Optoelektroniki

autor

Mulak A.

• Politechnika Warszawska, Instytut Mikroelektronniki i Optoelektroniki

Bibliografia

• 1. Won D.J., Wang С. H., Jang H.K., Choi D.J.: Appl. Phys. A, vol. 73, pp. 595-600, 2001.
• 2. Palomino-Merino R., Conde-Gallardo A., Garcia-Rocha M., Hernandez-Calderon I., Castano V., Rodriguez R.: Thin Solid Films, vol. 401, pp. 118-123, 1995.
• 3. Aarik J., Aida A., Kiisler A., Uustare T., Sammelselg V.: Thin Solid Films, vol. 340, pp. 110-116, 1999.
• 4. Prociów E. L, Domaradzki J., Kaczmarek D.: Proc, of IV International Conference ASDAM02, Slovakia, IEEE, pp. 51-54, 2002.