Optoelektroniczne metody pomiaru grubości cienkich transparentnych warstw wytwarzanych w procesach próżniowych

• Autorzy: Bogdanowicz R. , Gnyba M. , Wroczyński P.

Warianty tytułu

EN

Optoelectronic methods for thickness measurements of thin transparent films synthesized in vacuum processes

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule opisano problemy związane z określeniem grubości cienkich transparentnych warstw dielektrycznych, syntetyzowanych w procesach próżniowych. Przedstawiono stosowane metody pomiarowe, szczególny nacisk kładąc na techniki optoelektroniczne oparte na badaniu interferencji i zmiany stanu polaryzacji światła w wyniku oddziaływania z cienką warstwą oraz na analizie spektralnej.

EN

The paper describes problems that should be considered during the thickness investigation of thin, transparent, dielectric film, that are synthesized using vacuum systems. The most common used measurement methods are presented, but optoelectronic methods based on light interference on the sample spectral analysis and change of polarization of light illuminate the sample were the main topic.

Słowa kluczowe

PL

interferometria; spektroskopia; pomiary grubości; technologie cienkowarstwowe

EN

interferometry; spectroscopy; thickness measurements; thin film synthesis

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2004
• Tom: Vol. 45, nr 2
• Strony: 25--31
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Bogdanowicz R.

• Politechnika Gdańska, Wydział Elektroniki, Telekomunikacji i Informatyki

autor

Gnyba M.

• Politechnika Gdańska, Wydział Elektroniki, Telekomunikacji i Informatyki

autor

Wroczyński P.

• Politechnika Gdańska, Wydział Elektroniki, Telekomunikacji i Informatyki

Bibliografia

• 1. Willey R. R.: Practical Design and Production of Optical Thin Films. Marcel Dekker Inc., New York 1996.
• 2. Praca zbiorowa: Procesy technologiczne w elektronice półprzewodnikowej. WNT, Warszawa 1973.
• 3. Tompkins H.G., McGahan W. A.: Spectroscopic Ellipsometry and Reflectometry. John Wiley & Sons Inc., New York 1998.
• 4. Jones G. R., Russell P. C., Khandaker I.: Chromatic Interferometry for an Intellegent Plasma Processing System. Meas. Sci. Technol. 5, 1994, 639-47.
• 5. Ocean Optics Inc.: 2002 Product Catalog.
• 6. Lerner J. M., Thevenon A.: The Optics of Spectroscopy. Instruments SA Inc., New York 1988.
• 7. Heavens O. S.: Optical Properties of Thin Solid Films. Dover Publications Inc., New York 1965.
• 8. Milton Ohring: The Materials Science of Thin Films. Academic Press Inc., SanDiego 1992.