PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Poziom generacji promieniowania mikrolasera w warunkach rozpraszania powierzchniowego czół

Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Level of generated radiation of microchip with condition of front-surfaces scattering
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
Przedstawiono wyniki badań wpływu stanu powierzchni czół mikrolaserów na jakość generowanego promieniowania. Porównywane są próbki szkła fluorofosforowego o jednakowej koncentracji domieszkowanego nedymu oraz jednakowych wymiarach fizycznych. Na czoła próbek o różnym stopniu chropowatości powierzchni naniesione zostały powłoki interferencyjne o charakterystykach spektralnych odpowiednich dla mikrolaserów. Próbki zbadano w układzie diodowego pompowania optycznego w celu porównania wiązek generowanego promieniowania w zależności od stanu czół mikrolaserów.
EN
The study presents the results of front-surface state of microchips on the quality of generated radiation. The samples of fluorofosphate glass neodymium doped are compared. Samples had the same dimension and concentration of neodymium. The surfaces with different roughness have been coated likemicrochips. The samples were investigated with diode pumped system to compare generated beams for different states of microchips surfaces.
Słowa kluczowe
PL
Rocznik
Strony
81--89
Opis fizyczny
Bibliogr. 28 poz., schem., tab.
Twórcy
autor
  • Instytut Optoelektroniki, Wojskowa Akademia Techniczna, 00-908 Warszawa, ul. S. Kaliskiego 2
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWA2-0001-0024
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.