Dobór parametrów procesu wytwarzania sprzęgaczy siatkowych struktur fotonicznych przy zastosowaniu techniki trawienia skupioną wiązką jonową

• Autorzy: Salamon N. , Lisik Z.

Warianty tytułu

EN

Optimization of the production process of grating couplers for photonic applications using a focused ion beam technology

• Konferencja: Krajowa Konferencja Elektroniki. Sesja Specjalna InTechFun POIG.01.03.01-00-159/08 (11. 11-14.06. 2012 ; Darłówko Wschodnie, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule zaprezentowany został sposób wytwarzania sprzęgaczy siatkowych struktur fotonicznych, przy zastosowaniu techniki trawienia skupioną wiązką jonową. Struktury te miały pełnić funkcję wprowadzania światła do ścieżek optycznych w układach scalonych. Z uwagi na nietypową geometrię sprzęgaczy, wykonanie ich przy zastosowaniu typowej technologii fotolitografii jest niemożliwe. Z tego powodu do procesu produkcji oraz analizy wyników wykorzystano urządzenie Dual Beam, łączące w sobie zarówno system skupionej wiązki jonowej FIB (Focused Ion Beam), jak i mikroskop elektronowy SEM (Scanning Electron Microscopy).

EN

The work presented in this paper was aimed at fabricating special grating couplers for photonic applications using a focused ion beam technology. Because of the fact that the fabrication of these structures with an assistance of the traditional photolithography was impossible due to their non - standard geometry, the FIB technology had been used. All the investigations were made using a Dual Beam system which is a type of the FIB combining both, the FIB and the SEM (Scanning Electron Microscopy) in a single system, which expands the capabilities of the FIB by the possibility of performing electron beam assisted inspection and deposition, which is less harmful than using the ion beam.

Słowa kluczowe

PL

FIB; dual beam; nanostruktury; sprzęgacze siatkowe

EN

FIB system; dual beam; nanostructures; grating couplers

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2012
• Tom: Vol. 53, nr 9
• Strony: 71--73
• Opis fizyczny: Bibliogr. 5 poz., il.

Twórcy

autor

Salamon N.

autor

Lisik Z.

• Politechnika Łódzka, Katedra Przyrządów Półprzewodnikowych i Optoelektronicznych

Bibliografia

• [1] Schrauwen J.: Focused Ion Beam Processing of Nanophotonic Structures. PhD thesis, Gent 2009, Department of Information Technology INTEC Gent.
• [2] Kopp C., A. Chelnokov: Fiber grating couplers for silicon nanophotonic circuits: Design modeling methodology and fabrication tolerances. Optics Communications, vol. 282, no. 21, pp. 4242-4248, Nov. 2009.
• [3] Chen X., H. K. Tsang: Nanoholes Grating Couplers for Coupling Between Silicon-on-Insulator Waveguides and Optical Fibers. IEEE Photonics Journal, vol. 1, no. 3, pp. 184-190, Sep. 2009.
• [4] Romano-Rodriguez A., F. Hernández-Ramirez: Dual-beam focused Ion beam (FIB): A prototyping tool for micro and nanofabrication. Microelectronic Engineering, vol. 84, no. 5-8, May 2007.
• [5] Wohlfeil B.: Fiber Grating Couplers on SOI. Institut fur Hochfrequenztechnik, Technische Universitat Berlin, prezentacja na seminarium Instytutu.