Próżniowe otrzymywanie cienkich warstw na wielkogabarytowych, szklanych podłożach. Cz. 1 Magnetron prostokątny WMP 100x2500

• Autorzy: Halarewicz J. , Posadowski W. M. , Domanowski P. , Wiatrowski A.

Warianty tytułu

EN

Large area deposition of thin films. Part 1 Rectangular magnetron sputtering source WMP 100x2500

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono wyniki badań układu magnetronowego WMP 100x2500 przeznaczonego do otrzymywania powłok cienkowarstwowych na wielkogabarytowych podłożach. W ramach prac badawczych opracowano koncepcję, wykonano dokumentację konstrukcyjną i wykonano magnetronowy układ rozpylający. Prototyp WMP100x500 jest oryginalnym krajowym rozwiązaniem konstrukcyjnym, które będzie wykorzystane na linii produkcyjnej, do nanoszenia warstw na szklane podłoża, w firmie BOHAMET Bydgoszcz.

EN

The paper presents results of investigations of WMP 100x2500 magnetron designed to receive large-size thin-film coatings on substrates. The research work covers development of the concept, preparation of the design documentation and realization of magnetron sputtering system. The WMP 100x2500 prototype is an original domestic design solution that will be used on the production line for applying layers of glass panes in the company BOHAMET Bydgoszcz.

Słowa kluczowe

PL

próżnia; magnetron prostokątny; osadzanie cienkich warstw

EN

vacuum; rectangular magnetron; thin film deposition

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2012
• Tom: Vol. 53, nr 4
• Strony: 74--76
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., il., wykr.

Twórcy

autor

Halarewicz J.

autor

Posadowski W. M.

autor

Domanowski P.

autor

Wiatrowski A.

• Zakład Produkcyjny BOHAMET, Ciele, Białe Błota

Bibliografia

• [1] www.leyboldoptics.com stan na dzień 15.02.2012.
• [2] Ruske F., Jacobs C., Sittinger V., Szyszka B., Werner W.: Large area ZnO: Al films with tailored light scattering properties for photovoltaic applications. Thin Solid Films, 515, (2007), pp. 8695-8698.
• [3] Szyszka B., T. Hoing, Jiang X., Bierhals A., Malkomes N., Vergohl M., Sittinger V., Bringmann U., Brauer G.: Large Area Deposition of Transparent and Conductive ZnO:Al Layers by Reactive Mid Frequency Magnetron Sputtering. Society of Vacuum Coaters Proceedings of 44th Annual Technical Conference, Philadelphia, April 21-26, (2001), pp. 272-276.
• [4] www.vonardenne.biz. stan na dzień 15.02.2012.
• [5] May C., Strűmpfel J., Schulze D.: Magnetron Sputtering of ITO and ZnO Films for Large Area Glass Coating. 43rd Annual Technical Conference Proceedings, Denver, April, 15-20, Society of Vacuum Coaters, (2000), pp. 137-142.
• [6] www.gencoa.com
• [7] Marszałek K., Leja E.: Badania charakterystyk przemysłowego magnetronu liniowego o mocy 50 kW. VI Konferencja Naukowa, Technologia Elektronowa, Krynica 6.05-9.05.1997, t. 2, ss. 384-387.
• [8] Posadowski W. M.: Układ do wytwarzania pola magnetycznego. Patent Nr 153969, Zgłosz. nr P 266309 z 15.06.1987, opubl. 29.11.1991.