Tytuł artykułu
Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
Influence of conditions applied silica glasses on the quality of the resulting silicon surface
Konferencja
Krajowa Konferencja Elektroniki. 8 ; 7-10.06.2010 ; Darłówko-Wschodnie, Polska
Języki publikacji
Abstrakty
Głównym celem przedstawionych w artykule badań była analiza warunków nanoszenia i formowania warstw dielektrycznych na jakość tych warstw. Warstwy obserwowano za pomocą mikroskopu Axio Imager MAT firmy Carl Zeiss. Analizowano powierzchnię pod kątem powstałych defektów i istniejących zanieczyszczeń.
The main objective of the research in the article was an analysis of the conditions applied and the formation of dielectric layers on the quality of these layers. Layers were observed with microscope mikroskopu Axio Imager MAT Carl Zeiss firm. Analyzed in terms of surface defects created and the existing pollution.
Słowa kluczowe
Wydawca
Rocznik
Tom
Strony
21--23
Opis fizyczny
Bibliogr. 4 poz., il.
Twórcy
Bibliografia
- [1] Waczyński K., Krompiec S., Łoś S.: Badania nad zastosowaniem szkliwa planaryzującego w technologii krzemowej. Zeszyły Naukowe Politechniki Śląskiej, z.129, Gliwice, 1993.
- [2] http://www.mse.arizona.edu/faculty/birnie/Coatings
- [3] FILMTRONICS, “Materiały reklamowe firmy”, Pensylwania USA, 1996.
- [4] Carl Zeiss: Instrukcja obsługi Axio Imager Mikroskop - Carl Zeiss AG Mikroskopia Świetlna, Göttingen 2006.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWA1-0039-0004