Optoelektroniczny system przestrzennego monitoringu wzbudzenia plazmy w procesach syntezy optycznych warstw diamentopodobnych

• Autorzy: Bogdanowicz R.

Warianty tytułu

EN

Optoelectronic system for spatially resolved plasma monitoring during synthesis of thin diamond-like carbon films

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedmiotem pracy jest optoelektroniczny system do badania wzbudzenia plazmy mikrofalowej w procesie syntezy warstw DLC (ang. Diamond Like-Carbon). W komunikacie zaprezentowano budowę systemu do przestrzennego monitoringu stanu wzbudzenia plazmy podczas procesu CVD. System SR-OES (ang. Spatially Resolved Optical Emission Spectroscopy) umożliwia określanie rozkładu wzbudzenia cząstek w przestrzeni komory i na tej podstawie wybrania optymalnego położenia podłoża oraz prądów cewek ECR.

EN

The main topic of article is optoelectronic system dedicated for plasma diagnostics during DLC layer synthesis. The setup of spatially resolved plasma excitation monitoring system is presented in this paper. SR-OES system enables investigations of distributions of species excitations in the area of chamber, what leads to optimal selection of substrate holder position and ECR coils configuration. The SR - OES monitoring results shows high concentrations of ionized species and non-linear progress of excitation and ionization reactions. It proves the previously obtained molecular modeling.

Słowa kluczowe

PL

diagnostyka optyczna in-situ; przestrzennie zorientowana optyczna spektroskopia emisyjna; plazma mikrofalowa; warstwy DLC

EN

optical in-situ monitoring; spatially resolved optical emission spectroscopy; microwave plasma; DLC films

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2010
• Tom: Vol. 51, nr 1
• Strony: 45--47
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Bogdanowicz R.

• Politechnika Gdańska, Wydział Elektroniki, Telekomunikacji i Informatyki

Bibliografia

• [1] Asmussen J., Reinhard D., Dandy D. S.: Diamond Thin Films Handbook. Marcel Dekker, Inc., New York, pp.10-37, 2002.
• [2] Robertson J.: Materials Science & Engineering R-Reports 37, 129-281, 2002.
• [3] Jones N., Ahmed W., Hassan I.: J. Phys.: Condens. Matter, vol. 15, pp. 2969-2975, 2003.
• [4] Elliott M. A., May P. W., Petherbridge J., Leeds S. M., Ashfold M. N. R.: Diam. Rel. Mat. vol. 9, pp. 311-316, 2000.
• [5] Zu-Yuan Z., Guang-Chao C.: Chin Phys., vol. 15(5), pp. 980-984, 2006.
• [6] Cappelli M. A., Owano T. G., Gicquel A., Duten X.: Plasma Chemistry and Plasma Processing. Vol. 20, 1, 1-12(12), (2000).
• [7] Gnyba M., Bogdanowicz R.: Eur. Phys. J. ST, vol. 144, pp. 209-212, 2007.
• [8] Lombardi G., K. Hassouni, G. D. Stancu, L. Mechold, J. Ropcke, A. Gicquel.: J. Appl. Phys. 98, 53 303 2005.
• [9] Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczynski P.: J. Phys. IV vol. 137, pp. 57-61,2006.
• [10] Hassouni K., Grotjohn T. A., Gicquel A.: J. Appl. Phys 86, 134, 1999.
• [11] Herman A., Wroczyński P.: Adv. Sci. Technol., vol. 6, pp. 141-7, 1995.