Koncepcja stanowiska do badań rozkładu przestrzennego czułości widmowej detektorów

• Autorzy: Mikołajczyk J. , Rakowski R. , Rutecka B.

Warianty tytułu

EN

Laboratory setup for investigation of spatial non-uniformity of detector responsivity

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule przedstawiono koncepcję stanowiska do badań rozkładu przestrzennego czułości widmowej detektorów na potrzeby metrologii promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu EUV (ang. Extreme Ultraviolet) oraz miękkiego promieniowania X (ang. Soft X-ray). Zakres ten obejmuje promieniowanie o długości fali od 0,1 nm do 50 nm [1]. Badania będą miały na celu nie tylko wyznaczenie czułości detektorów, ale również ich powierzchniowej niejednorodności. Głównym elementem tego stanowiska jest źródło laserowo-plazmowe z tarczą gazową. Na podstawie przeprowadzonych wyników badań określono wymagania dotyczące doboru układu optycznego, jak również metody pomiarowej. Omówiono także układ pomiarowy przeznaczony do wyznaczania niejednorodności powierzchniowej czułości detektorów. Przedyskutowano wyniki wstępnych badań fotodiody krzemowej stosowanej w przyrządach pomiarowych promieniowania EUV oraz Soft X-ray.

EN

The paper presents a project of laboratory setup for detectors investigation applied in metrology of extreme ultraviolet and soft X-ray radiation. The main task of the work is determination both the detector responsivity and the non-uniformity of spatial responsivity. At the setup, a laser-plasma source with gas-puff target is used. Basing on the measured parameters of the source, the requirements for optical elements and a measurement method have been specified. A special investigation procedure of the spatial non-uniformity of detector responsivity is described. The preliminary results of silicon photodiode investigations are also presented and discussed.

Słowa kluczowe

PL

promieniowanie z zakresu skrajnego nadfioletu (EUV); mikroskopia optyczna; nanolitografia; kalibracja detektorów

EN

extreme ultraviolet radiation; optical microscopy; nanolithography; detectors calibration

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2010
• Tom: Vol. 51, nr 1
• Strony: 29--32
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., il., rys., wykr.

Twórcy

autor

Mikołajczyk J.

autor

Rakowski R.

autor

Rutecka B.

• Wojskowa Akademia Techniczna, Instytut Optoelektroniki

Bibliografia

• [1] Atwood D. T.: Soft X-rays and Extreme Ultraviolet Radiation: Principle and Applications, Cambridge University Press (1999).
• [2] “JMAR Awarded 34.5M to Advance X-ray Nanolithography”, Laser Focus World, vol. 12, 2002.
• [3] Hesch K., Pellegrin E., Rossmanith R., etc.: Extreme ultraviolet (EUV) sources based on synchrotraon radiation. Proceedings of the 2001 Particle Accelerator Conference, Chicago, pp. 654-656, 2001.
• [4] Stuik R.: Characterization of XUV sources. CIP-data library Technische Universiteit Eindhoven, 2002.
• [5] Fiedorowicz H., Bartnik A., Jarocki R., Kostecki J., Mikołajczyk J., Rakowski R., Szczurek A., Szczurek M.: Compact laser plasma EUV source based on a gas puff target for metrology applications. Journal of Alloys and Compounds 401, pp. 99-103, 2005.
• [6] Fiedorowicz H., Bartnik A., Juha L., Jungwirth K., Kralikowa B., Krasa J., Kubat P., Pfeifer M., Pina L., Prchal P., Rohlena K., Skala J., Ullschmied J., Horwath M., Wawer J.: High-brightness laser plasma soft X-ray source using a double-stream gas puff target irradiated with the Prague Asterix Laser System (PALS), Journal of Alloys and Compounds 362, pp. 7-70, 2004.
• [7] Mikołajczyk J., Bielecki Z.: Application of laser plasma source with gas-puff target for calibration of EUV radiation detectors. Elektronika, nr 12, 2007.
• [8] Mikołajczyk J., Bielecki Z.: Stanowisko do badań czułości widmowej detektorów promieniowania podczerwonego o długości fali 13.5 nm. Pomiary Automatyka Kontrola, vol. 53, nr 9, ss. 285-288, 2007.
• [9] Bartnik A., Fiedorowicz H., Jarocki R., Kostecki J., Rakowskia R., Szczurek M., Pina L., Sveda L., Inneman A.: Lobster eye optics for collecting radiation of a laser plasma soft X-ray source based on a gas puff target. JCPDS-lnternational Centre for Diffraction Data 2006, ISSN 1097-0002, pp. 395-400, 2006.
• [10] Rakowski R., Bartnik A., Fiedorowicz H., Jarocki R., Kostecki J., Krzywiński J., Mikołajczyk J., Pina L., Ryć L., Szczurek M., Ticha H., Wachulak P.: EUV metrology of multilayer (Mo/Si) mirrors with the use of laser-produced plasma EUV source for 13.5 nm based on a gas puff target. Optica Applicata XXXVI, 4, pp. 593-600, 2006,
• [11] Mikołajczyk J.: Stopień wejściowy na zakres promieniowania 2-4 nm. Elektronika, nr 6, 2008.