Tytuł artykułu
Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
Research on physico-chemical bases of the ion nitriding precess with the use of plasma diagnostics
Konferencja
Inżynieria Powierzchni 2000. 3 Ogólnopolska Konferencja Naukowa ; 2000 ; Radom - Kazimierz Dolny, Polska
Języki publikacji
Abstrakty
W artykule zostały przedstawione widma emisyjne oraz widma masowe plazmy wyładowania jarzeniowego zarejestrowane dla trzech procesów azotowania różniących się składem atmosfery azotującej i parametrami prądowo-napięciowymi wyładowania. W celu identyfikacji uzyskanych struktur warstw azotowanych wykonano badania dyfrakcyjne i metalograficzne. Na podstawie zarejestrowanych widm oraz po uwzględnieniu wyników wykonanych badań strukturalnych dla utworzonych warstw azotowanych dokonana została próba oceny, które ze składników plazmy istotnie wpływają na strukturę tworzonej warstwy azotowanej. Analiza widm masowych pozwoliła określić decydujący wpływ azotu atomowego na intensywność procesu azotowania natomiast analiza widm emisyjnych pozwoliła określić mechanizm jego wytwarzania w badanych procesach.
The paper presents the mass and emission spectra of the glow discharge plasma recorded for three different processes of ion nitriding. The structures of nitrided layers were investigated with the used of X-ray diffraction and optical metallography. The paper's authors revealed the correlation between parameters of the glow discharge plasma, observed by spectroscopic methods, and kinetics of the nitriding process determined by the structures of nitrided layers. On the basis of the obtained results plasma components, decisive for forming of individual structures of the nitrided layer, during nitriding process were assigned.
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
335--348
Opis fizyczny
Bibliogr. 18 poz., rys., wykr.
Twórcy
autor
autor
autor
autor
- Instytut Technologii Eksploatacji, Radom
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWA1-0030-0008