Uwarunkowania aparaturowe wymagane przy pomiarze prądów szumów m.cz. struktur tranzystorów submikronowych

• Autorzy: Szewczyk A.

Warianty tytułu

EN

Equipment requirements for the low frequency noise current measurement in the submicron transistors

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono najistotniejsze czynniki jakie powinno się uwzględniać aby efektywnie zmiejszać poziom przebiegów niepożądanych w ostrzowych pomiarach szumów struktur półprzewodnikowych. Przedstawione zalecenia redukcji zakłóceń sformułowano w oparciu o wyniki badań własnych autora.

EN

In the paper the factors important for the effective minimisation of the undesirable signals level in the point probe noise measurements of the semiconductor structures are presented. Described methods for the distortion reduction comes from the author's own experience in the noise measurements field.

Słowa kluczowe

PL

pomiar ostrzowy; szumy w strukturach półprzewodnikowych

EN

noise measurements; submicron semiconductor

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2002
• Tom: Vol. 43, nr 6
• Strony: 38--39
• Opis fizyczny: Bibliogr. 6 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Szewczyk A.

• Katedra Aparatury Pomiarowej, Wydział ETI PG,

Bibliografia

• 1. L. Hasse, L. Spiralski: ,,Szumy elementów i układów elektronicznych". WNT, Warszawa 1981.
• 2. A Szewczyk, L. Spiralski: ,,Sposób zmniejszania zakłóceń w ostrzowych pomiarach szumów m. cz. elementów na płytkach półprzewodnikowych". Materiały Krajowego Kongresu Metrologii KKM'2001, Politechnika Warszawska 2001.
• 3. A Szewczyk: ,,Efekty fluktuacyjne w pomiarach ostrzowych płytek półprzewodnikowych". Referat na III Seminarium Miernictwo Sygnałów Przypadkowych, NOISE 2000. Gdańsk - Wierzyca 2000.
• 4. L. Hasse, L Spiralski, J. Kołodziejski, A. Konczakowska: ,,Zakłócenia w aparaturze elektronicznej". Radioelektronik, sp. z o.o. Warszawa 1995.
• 5. B. Pałczyńska, L. Spiralski, J. Turczyński: ,,The new method of interference assessment in low-voltage power supply line". 11 th IMECO TC-4 Symposium - Trends in Electrical Measurement and instrumentation, Sept. 13-14, 2001, IST-Lisbon, Portugal.
• 6. J. A. Chroboczek, A. Szewczyk, G. Piantino: ,,Low Frequency Noise Point Probe Measurements on a Wafer Level Using a Novel Programable Current Amplifier". INCF'2001 Gainesville, USA.