Układy detekcji promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu

• Autorzy: Bielecki Z. , Mikołajczyk J.

Warianty tytułu

EN

Detection systems for extreme ultraviolet radiation

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono układ detekcji promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu (13,5 nm). Układ służy do kontrolowania pracy źródła laserowo-plazmowego z tarczą gazową, skonstruowanego w Instytucie Optoelektroniki WAT. Składa się on z głowicy detekcyjnej oraz układu filtrów optycznych, które są umieszczone w specjalnej konstrukcji mechanicznej. Jego dodatkowym wyposażeniem jest układ przetwarzania sygnałów umożliwiający zautomatyzowanie procesu pomiarowego. Prezentowany układ detekcji został użyty w badaniach optymalizujących pracę źródła laserowo-plazmowego. Wyniki porównano z danymi otrzymanymi z miernika komercyjnego E-mon i spektrografu.

EN

The paper presents a measuring system of extreme ultraviolet radiation pulses (13.5 nm). The system is used for monitoring a gas-puff laser-plasma source constructed at the Institute of Optoelectronics. The radiation source and the system are used in metrology of EUV optics. The system consists of a detection head and a system of optical filters, which are housing in a special construction. Additional element of the measuring system is a special processing unit. The measuring system was used during investigations of the plasma-laser source optimization. The results were comparable with the ones from a spectrograph and an E-mon energy meter.

Słowa kluczowe

PL

detekcja promieniowania EUV; nanolitografia; mierniki energii promieniowania optycznego; systemy detekcji promieniowania optycznego

EN

detection of EUV radiation; nanolithography; meter of optical radiation; detection systems of optical signals

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 47, nr 9
• Strony: 46--51
• Opis fizyczny: Bibliogr. 14 poz., il., wykr.

Twórcy

autor

Bielecki Z.

autor

Mikołajczyk J.

• Wojskowa Akademia Techniczna, Instytut Optoelektroniki, Warszawa

Bibliografia

• [1] Atwood D.: Soft X-Rays and extreme ultraviolet radiation. Cambridge 1999.
• [2] Windt D. L. i in.: Experimental comparison of extreme-ultraviolet multilayers for solar physics. Applied Optics, vol. 43, no 9, 2004, 1835-1848.
• [3] Louis E., i in.: Multilayer coated reflected optics for extreme UV lithography. Microelectronic Engineering 27, 1995, 235-238.
• [4] Fiedorowicz H. i in.: Metrology tools for characterization and control of a laser plasma EUV source based on a gas puff target. Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Source Workshop, California, 2003.
• [5] Seely J. F. i in.: Normal-incidence efficiencies of 4800-groove-symm-ruled replica gratings with multilayer and gold coatings in the 125-325-L wavelength region. Applied Optics, vol. 38, no 10, 1999, pp. 1920-1925.
• [6] Walker A. i in.: Ultrahigh resolution photographic films for X-ray/EUV/FUV astronomy. SPIE Proceedings, 1992, pp. 549-56.
• [7] Dobrzański L. i in.: Micromachined silicon bolometers as detectors of soft x-ray, ultraviolet, visible and infrared radiation. Sensors and Actuators, 1997, pp. 154-159.
• [8] Read P. D. i in.: Uses of microchanel plate intensified detectors for imaging applications in the x-ray, EUV and visible wavelength regions. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A, vol. 392, 1997, pp. 359-363.
• [9] Nickles J. i in.: A gas scintillation counter with imaging optics and large area UV-detector. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment, vol. 477, 2002, 59-63 9.
• [10] Scholze F. i in.: Calibration of charge coupled devices and a pin-hole transmission grating to be used as elements of a soft x-ray spectrograph. Rev. Sci. Instrum., vol. 68, 1997, 3301-3306.
• [11] Bijkerk F., Stuik R., Bruineman C.: Flying Circus 2 a concerted effort in EUV source development. EUVL Source Workshop, Santa Clara, 2002.
• [12] Materiały producenta Jenoptik Jena Mikrotechnik GmgH, www. jo-mikrotechnik.com
• [13] Fiedorowicz H. i in.: Investigation of soft X-ray emission from a gas puff target irradiated with a Nd:YAG laser, Optics Communications, vol. 163, 1999, pp. 103-114.
• [14] strona intemetowa http://www.cxro.lbl.gov/optical_constants/index.html