PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Układ kontroli parametrów środowiskowych w komorze pomiarowej mikroskopu NC-AFM

Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Setup for environment conditions control in measuring chamber of NC-AFM
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
Mikroskopia bliskiego pola jest jedną z metod diagnostyki powierzchni w skali mikro-i nanometrowej. Ponieważ uzyskane wyniki zależeć mogą od stanu powierzchni istotna jest kontrola warunków w komorze pomiarowej. Przedstawiono rozwiązanie umożliwiające pomiar temperatury oraz wilgotności powietrza przy użyciu cyfrowego czujnika firmy Sensirion.
EN
Near Field Microscopy is one of diagnostic methods of the surface in micro-and nanoscale. Imaging quality is connected to environment conditions in the chamber. The article presents a setup which allow to measure relative humidity and temperature. The measurement is performed with digital sensor made by Sensirion company.
Rocznik
Strony
81--82
Opis fizyczny
Bibliogr. 6 poz., schem., wykr.
Twórcy
autor
  • Instytut Elektrotechniki, Oddział Technologii i Materiałoznawstwa Elektrotechnicznego, Wrocław
Bibliografia
  • [1] L. Zitzler, S. Herminghaus, F. Mugele: Capillary forces in tapping mode atomic force microscopy. Phys. Rev. B, 66, 155436 (2002).
  • [2] R. Brunner, O. Marti, O. Hollrichera: influence of environmental conditions on shear force distance control in near-field optical microscopy. J. Appl. Phys. 12, 7100-7106 (1999).
  • [3] M. Antognozzi, A. D. L. Humphris, and M. J. Miles: Observation of molecular layering in a confined water film and study of the layers viscoelastic properties. Appl. Phys. Lett. 78, 300-302 (2001).
  • [4] B. Bhushan, H. Liu: Nanotribological properties and mechanisms of alkylthiol and biphenyl thiol self-assembled monolayers studied by AFM, Phys. Rev. B, 63, 245412 (2001).
  • [5] T. Thundat, R. J. Warmack, D. P. Allison, L. A. Bottomley, A. J. Lourenco, T. L. Ferrel: Atomic force microscopy of deoxyribonucleic acid strands adsorbed on mica: The effect of humidity on apparent width and image contrast. J. Vac. Sci. Technol. A, 10, 630-635 (1992).
  • [6] N. Clement, D. Tonneau, B. Gely, H. Dallaporta, V. Safarov, J. Gautier: High aspect ratio nano-oxidation of silicon with noncontact atomic force microscopy. J. Vac. Sci. Technol. B, 21, pp. 2348-2351 (2003).
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWA1-0010-0082
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.