Wpływ zastosowania międzywarstwy na właściwości metalizacji Al

• Autorzy: Zaborowski M.
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedyskutowano mechanizmy zmian morfologicznych zachodzących na skutek wygrzewania cienkich warstw metalizacji aluminiowej. Omówiono przyczyny powstawania hilloków. Zaproponowano metodę wpływania na stan powierzchni metalizacji przez ograniczenie dyfuzji za pomocą dodatkowej warstwy umieszczonej wewnątrz metalizacji. Zaprezentowano wyniki badań takich metalizacji trójwarstwowych (badania mikroskopowe, profilograf SEM, analiza hilloków), gdzie jako materiał międzywarstwy wykorzystano następujące metale: Cr, IV, Ti i stop Ti:W. Stwierdzono rozwój porów w metalizacji Al/Cr/Al i hilloków w metalizacji Al:Si/Cr/Al oraz oba te zjawiska przy zastosowaniu tytanu. Najlepsze rezultaty otrzymano z międzywarstwą Ti:W, która ogranicza gęstość i maksymalną średnicę hilloków w Al i w Al:Si oraz zapobiega powstawaniu porów. Sprawdzono napięcia przebicia kondensatorów planarnych wykonanych z tych metalizacji. Przedstawione prace, obok poprzednio publikowanych [1], stanowią części rozprawy doktorskiej autora [2].

• Wydawca: Instytut Technologii Elektronowej
• Czasopismo: Prace Instytutu Technologii Elektronowej
• Rocznik: 1998
• Tom: z. 11/12
• Strony: 1--30
• Opis fizyczny: Bibliogr. 36 poz., il., tab., wykr.

Twórcy

autor

Zaborowski M.

• Instytut Technologii Elektronowej, Al. Lotników 32/46, 02-668 Warszawa