PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Surface magnetic anisotropy of Co Hf thin films

Identyfikatory
Warianty tytułu
Konferencja
Korean-Polish Joint Seminar on Physical Properties of Magnetic Materials (3 ; 26-28.08.1997 ; Kraków, Poland)
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
In order to investigate the effect of Hf content and the thickness of Co₁₀₀₋xHfx (x=16,24, 32 at.%) films we observed the absorption lines of spin wave resonance through the ferromagnetic resonance (FMR) measurement. One volume spin wave mode and surface spin wave models were observed for all the samples because the surface anisotropy constants of both sides of the films areless than zero. When the annealing temperature for Co84Hf16 film increased up to 225°C the surface magnetic anisotropy constant Ks2 of the film-substrate interface decreased from -0,07 erg/cm² to -0.32 erg/cm² and the Ks1 constant Ks2 of the film-air interface varied from 0.18 erg/cm² to -47 erg/cm². In Co76Hf24 film Ks2 decreased a little from -0.31 erg/cm² to -0.41 erg/cm² and Ks1 decreased rapidly from -0.19 erg/cm² to-0.60 erg/cm². In genearal it is shown that the surface anisotropy at the film-air interface is very sensitive to Hf content and annealing temperature. This result is due to the increase of Co content caused by oxidation of Hf atoms near the film-air interface during low temperature annealing (150~175°C) and the diffusion of Co atoms during high temperature annealing (200~220°C).
Słowa kluczowe
Czasopismo
Rocznik
Strony
60--64
Opis fizyczny
Bibliogr. 13 poz.
Twórcy
autor
autor
autor
autor
autor
autor
  • Departament of Physics, Korea University, Chochiwon, Chungnam, 339-700, Korea
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWA1-0001-0136
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.