Stabilność rezystorów RuO2 + szkło do zastosowań kriogenicznych

• Autorzy: Rycerz D. , Mleczko K. , Zawiślak Z. , Żak D.

Warianty tytułu

EN

Stability of RuO2 + glass thick-film resistors for cryogenic implementations

• Konferencja: Krajowa Konferencja Elektroniki. 5 ; 12-14.06.2006 ; Darłówko Wschodnie, Polska
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Wykonane we własnym zakresie rezystory grubowarstwowe RuO2+ szkło badano pod kątem zastosowań w termometrii niskotemperaturowej. Zaprezentowane wyniki badań obejmują stabilność rezystancji próbek poddanych cyklicznym zmianom temperatury (zarówno szybkim jak i powolnym) w przedziale 300..77 K oraz w trakcie długotrwałego wygrzewania (1600 h) w temperaturze 170°C. Zmierzono również wskaźnik szumów próbek poddanych szybkim cyklom termicznym.

EN

Laboratory-made RuO2+ glass thick film resistors have been examinated for their application as cryogenic thermometers. Presented results encompass resistance stability during thermal cycling from 300 K to 77 K - fast (thermal shocks) and slow - and longterm (1600 h) annealing at 170°C. For fast thermal cycling current noise index of the resistors was also measured.

Słowa kluczowe

PL

rezystory grubowarstwowe RuO2 + szkło; termometry niskotemperaturowe; przyspieszone starzenie

EN

RuO2 + glass thick-film resistors; low temperature thermometrs; thermal cycling

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 47, nr 11
• Strony: 42--44
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., wykr.

Twórcy

autor

Rycerz D.

autor

Mleczko K.

autor

Zawiślak Z.

autor

Żak D.

• Politechnika Rzeszowska, Katedra Podstaw Elektroniki

Bibliografia

• [1] Meissel M. W., Stewart G. R., Adams E. D.: Thick film chip resistors as millikelvin thermometers. Cryogenics, 29, 1168-1169 (1989).
• [2] Bat'ko I. i in.: Designe of RuO2 -based thermometers for the millikelvin temperature range, Cryogenics, 35, 105-108 (1995).
• [3] Goodrich R. G. i in.: Magnetoresistance below 1 K and temperature cycling of ruthenium oxide-bismuth ruthenate cryogenic thermometers. Cryogenics, 38, 221-225 (1998).
• [4] Watanabe M., Morishita M., Ootuka Y., Magnetoresistance of RuO2 -based resistance thermometers below 0.3 K. Cryogenics, 41, 143-148 (2001).
• [5] Yeager C. J., Courts S. S.: A review of cryogenic thermometry and common temperature sensors. IEEE Sens. J., 4, 352-360, (2001).
• [6] Żak D. i in.: Implementation of RuO2 -glass based thick film resistors in cryogenic thermometry. Meas. Sci. Technol., 17, 22-27 (2006).
• [7] Szpytma A., Marczak A.: Long-term stability of resistance and 1/f noise of TFRs on alumina and glazed metal substrates. Proc. 14th Conf. ISHM Poland, Warsaw, September 24-26, 1990, 103-106.
• [8] Vionnet S., Maeder Th., Ryser P.: Firing, quenching and annealing studies on thick-film resistors. J. Eur. Ceram. Soc., 24, 1889-1892 (2004).