Wytwarzanie przyrządów elektroniki kwantowej metodami mikroskopii bliskich oddziaływań

• Autorzy: Kolanek K. , Gotszalk T. , Woszczyna M. , Masalska A. , Zawierucha P. , Mulak P. , Szeloch R. , Zielony M. , Janus P. , Grabiec P.

Warianty tytułu

EN

Fabrication of nanostructures using Scanning Probe Microscopy

• Konferencja: Metrologia Kwantowa ; 09-10.05.2006 ; Poznań, Polska
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Ciągły rozwój technologii półprzewodnikowej powoduje wzrost skali integracji, szybkości działania układów elektronicznych oraz zmniejszenie pobieranej przez nie mocy. Obecny stan technologii opiera się głównie na technice fotolitografii i osiąga kres swoich możliwości zmniejszania charakterystycznych wymiarów przyrządów półprzewodnikowych. Przewiduje się, że fotolitografia nie zapewni tworzenia przyrządów półprzewodnikowych o rozmiarach charakterystycznych mniejszych od 30 nm. Zastosowanie mikroskopii sił atomowych do lokalnej anodyzacji powierzchni otwiera nowe perspektywy wykonywania wzorów o wymiarach mniejszych od 30 nm. Zaletą tej techniki jest możliwość zarówno wytwarzania, jak i jednoczesnej diagnostyki wygenerowanych wzorów. Przedstawiono wyniki eksperymentów prowadzonych w laboratorium mikroskopii bliskich oddziaływań, nanostruktur i nanomiernictwa WEMiF z Politechniki Wrocławskiej.

EN

Rapid progress in semiconductor technology leads to greater scale of integration, improved speed and a reduced amount of the needed power of the electronic devices. At the present time mainly photolithography tools are used for developing electronic devices. Now the tools are working on the edge of the performance. Scanning probe microscopy is one of the methods which may be applied not only to surface visualization but also to modification. In this paper we describe local anodization process, which may be applied to create patterns on semiconductor and metallic surfaces. Control software of the atomic force microscope transfers designed patterns on the surface. We will present our research conducted in Laboratory of scanning probe microscopy, nanostructures and nanometrology in the Faculty of Microsystems Electronics and Photonics at Wroclaw University of Technology.

Słowa kluczowe

PL

mikroskopia sił atomowych; lokalna anodyzacja powierzchni; nanolitografia; elektronika kwantowa; kwantowy kontakt punktowy

EN

atomic force microscopy (AFM); local anodic oxidation; nanolithography; quantum electronics; quantum point contact

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 47, nr 5
• Strony: 27--29
• Opis fizyczny: Bibliogr. 5 poz., il.

Twórcy

autor

Kolanek K.

autor

Gotszalk T.

autor

Woszczyna M.

autor

Masalska A.

autor

Zawierucha P.

autor

Mulak P.

autor

Szeloch R.

autor

Zielony M.

autor

Janus P.

autor

Grabiec P.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Wrocław

Bibliografia

• [1] Likharev K.: Single-Electron Devices and Their Applications. Proc. IEEE, vol. 87, pp. 606-632, April 1999.
• [2] Held R., Heinzel T.: Nanolithography by local anodic oxidation of metal films using an atomic force microscope. Physica E, 748-752, 1998.
• [3] Held R.: Semiconductor quantum point contact fabricated by lithography with an atomic force microscope. Applied physics letters, 71 (18), 2689-2991, 3 November 1997.
• [4] Bouchiat V.: Resistless patterning of quantum nanostructures by local anodization with an atomic force microscope. Microelectronic Engineering, 517-522, 2002.
• [5] Kolanek K., Sikora A., Gotszalk T., Szeloch R.: Sterowanie procesem nanolitografii w modularnej mikroskopii bliskich oddziaływań. Krajowa Konferencja Elektroniki 2005, ss. 525-529.