Wykorzystanie szkliw domieszkowo-krzemowych w technologii półprzewodnikowych struktur fotowoltaicznych

• Autorzy: Wróbel E. , Waczyński K. , Mazur M. , Filipowski W. , Drabczyk K.

Warianty tytułu

EN

Exploitation of silica glasses within the semiconductor solar cell technology

• Konferencja: Krajowa Konferencja Elektroniki (4 ; 12-15.06.2005 ; Darłówko Wschodnie, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono badania nad przydatnością szkliw domieszkowo-krzemowych w technologii półprzewodnikowych struktur fotowoltaicznych oraz nad określeniem wpływu parametrów procesu dyfuzji na właściwości ogniw słonecznych. W trakcie badań przeprowadzono szereg testowych procesów dyfuzji z szkliw domieszkowo-krzemowych, a następnie wykorzystując uzyskane warstwy dyfuzyjne wytworzono serię ogniw słonecznych i poddano je pomiarom za pomocą specjalistycznej aparatury.

EN

In the article there are presented usability researches on the silica gasses, made of semiconductor photovoltaic cells, as well as the analysis of an influence of the diffusion process parameters on the photo cells' properties. During the research there were testing processes of the silica glasses diffusion performed, and with the use of the diffusion layers, a series of photo cells was generated to put them on measurements taking advantage of specialized apparatus.

Słowa kluczowe

PL

struktury fotowoltaiczne; technologia krzemowa; szkliwa domieszkowe

EN

photovoltaic cells; silicon technology; silica glasses

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 11
• Strony: 32--34
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., wykr.

Twórcy

autor

Wróbel E.

• Politechnika Śląska, Instytut Elektroniki, Gliwice

autor

Waczyński K.

• Politechnika Śląska, Instytut Elektroniki, Gliwice

autor

Mazur M.

• Politechnika Śląska, Instytut Elektroniki, Gliwice

autor

Filipowski W.

• Politechnika Śląska, Instytut Elektroniki, Gliwice

autor

Drabczyk K.

• Politechnika Śląska, Instytut Elektroniki, Gliwice

Bibliografia

• [1] Drabczyk К.: Badanie technologii wytwarzania warstwy emiterowej multikrystalicznego krzemowego ogniwa fotowoltaicznego. Praca doktorska, Gliwice 2003.
• [2] Kończak S. i inni: Sposób wytwarzania rozwirowywanego źródła arsenu albo fosforu do dyfuzji planarnej w krzemie. Patent PRL nr 151167 Warszawa 1991.
• [3] Waczyński K., Krompiec S., Matysek-Majewska D.: Badania nad zastosowaniem szkliw domieszkowanych borem i fosforem w półprzewodnikowej technologii krzemowej. Zeszyty Naukowe Politechniki Śląskiej, Chemia, z. 129, Gliwice 1993.
• [4] Wróbel E.: Analiza procesów dyfuzji planarnej w półprzewodnikach zwybranych źródeł domieszek. Praca doktorska, Gliwice 2001.