Impulsowe zasilanie układu magnetronowego : parametr technologiczny procesu rozpylania

• Autorzy: Wiatrowski A. , Dora J. , Posadowski W. M.

Warianty tytułu

EN

Pulsed power supply of magnetron device : technological parameter of sputtering process

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Zaprezentowano konstrukcję oraz zasadę działania rezonansowego zasilacza impulsowego DPS. Za pomocą systemu do magnetronowego nanoszenia warstw (zasilacz DPS MSS-10 i magnetron WMK-50) otrzymywano warstwy AINx w procesie reaktywnego rozpylania targetu Al w atmosferze mieszaniny Ar i N2. Wykazano istnienie zależności pomiędzy stanem powierzchni targetu (modem pracy magnetronu) a parametrami zasilania impulsowego („moc krążąca").

EN

The design and operating principle of resonant pulsed power supply DPS are presented. Magnetron sputtering system (DPS MSS-10 pulsed power supply and WMK-50 magnetron) was used to reactive deposition of AINx. The aluminium target was sputtered in a mixture of Ar and N2. The dependence between state of target surface and pulsed power supply parameter ("circulating power") is pointed.

Słowa kluczowe

PL

reaktywne rozpylanie magnetronowe; zasilanie impulsowe

EN

reactive magnetron sputtering; pulsed power supply

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 6
• Strony: 33--34
• Opis fizyczny: Bibliogr. 2 poz., wykr.

Twórcy

autor

Wiatrowski A.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Dora J.

• "Wyrób Elektronicznej Aparatury Laboratoryjnej", Wrocław

autor

Posadowski W. M.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• 1. Dora J.: Zasilacz rezonansowy. Patent PL Nr 313150, zgł. 13.03.1996.
• 2. Posadowski W., Kudzia J., Wiatrowski A.: Deposition rate of dielectric films obtained by reactive magnetron sputtering. Materiały konferencyjne VIII Electron Technology Conference 2004, ss. 402-403.