Badania profilometryczne mikrochropowatości powierzchni tytanu rozpylanej jonami jako wstępny etap jej analizy fraktalnej

• Autorzy: Bałamucki J. , Czarnecki P. , Wilk J. , Kowalski Z. W.

Warianty tytułu

EN

Profilometrical studies of microroughness of ion sputtered titanium surface as a initial step to fractal analysis

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono wyniki badań wpływu rozpylania polikrystalicznego tytanu zneutralizowaną wiązką jonów kryptonu na mikrochropowatość jego powierzchni. Mierzono za pomocą wysokiej klasy profilometru parametry opisujące podstawowe cechy profilu: średnie arytmetyczne odchylenie profilu chropowatości Ra, wysokość chropowatości według 10 punktów Rz i maksymalną wysokość chropowatości Rm, udział nośny profilu tp. Analizowano wpływ czasu bombardowania oraz długości odcinka elementarnego (wzdłuż którego wyznaczane są parametry) na zmianę wartości tych parametrów. Przeprowadzone badania i uzyskane wyniki stwarzają możliwość analizy fraktalnej powierzchni tytanu poddanej rozpylaniu zneutralizowaną wiązką jonów kryptonu.

EN

The article presents results of studies on the influence of neutralized krypton ion-beam sputtering of polycrystalline titanium on its surface microroughness. Parameters describing the main profile features were measured by means of high quality profiometer: arithmetical mean deviation of the surface profile Ra, ten point height of irregularities Rz and maximum height of the surface profile Rm, profile bearing length ratio tp. The influence of bombardment duration and length of elementary segment (the parameters in question are measured along this segment) on those parameters changes were analysed. Experimentation and obtained results give possibility of fractal analysis of titanium surface subjected to neutralized krypton ion-beam sputtering.

Słowa kluczowe

PL

rozpylanie jonowe; mikrochropowatość; tytan

EN

ion sputtering; microroughness; titanium

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 6
• Strony: 31--32
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., il., wykr.

Twórcy

autor

Bałamucki J.

• Politechnika Wrocławska, Instytut Technologii Maszyn i Automatyzacji

autor

Czarnecki P.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki, Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Wilk J.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki, Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Kowalski Z. W.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki, Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• 1. Kowalski Z. W.: Morfologia powierzchni rozpylanej jonami - implikacje technologiczne i biomedyczne. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2001.
• 2. Marendziak A., Gotszalk T., Rangelow I., Wilk J., Kowalski Z. W.: Przygotowanie AFM do pomiarów nanochropowatości i analizy fraktalnej powierzchni rozpylanej jonami. IX Ogólnopolskie Seminarium „Techniki Jonowe”, Szklarska Poręba, 16-18 marca 2005 r. (przeznaczone do druku w czasopiśmie „Elektronika”).
• 3. Polska Norma PN-87/M-04256/02, Struktura geometryczna powierzchni. Chropowatość powierzchni. Terminologia ogólna.
• 4. Wilk J., Kowalski Z. W.: Titanium surface after neutralized ion beam irradiation. Vacuum 70, 2003, 87-91.
• 5. Nowicki B.: Struktura geometryczna. Chropowatość i falistość powierzchni. WNT, Warszawa 1991.
• 6. Kowalski Z. W., Martan J., Tabaka R.: Fraktalna analiza profilu chropowatości powierzchni. Elektronika (XLIV) 11, 2003, 19-20.
• 7. G. Przybylski, J. Martan, Z. W. Kowalski: Fractal analysis of ion-sputtered stainless steel surface, Vacuum 70, 2003, 255-261.