Badanie wpływu konfiguracji elektrody na rozkład pola świecenia wyładowania wielkiej częstotliwości

• Autorzy: Grabarczyk J. , Lewandowski P.

Warianty tytułu

EN

Examination of the electrode configuration influence on the RF plasma discharge area

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono badania wykorzystujące zjawisko optycznej emisji plazmy wielkiej częstotliwości do diagnozowania warunków istniejących w obszarze wyładowania plazmo-chemicznego odpowiedzialnego za powstawanie warstwy. Badania polegały na rejestracji widzialnego widma wyładowania jarzeniowego za pomocą zwykłej kamery CCD. Uzyskane obrazy następnie poddano obróbce komputerowej. Za pomocą metod analizy obrazu dokonano transformacji zarejestrowanych zdjęć w taki sposób, aby wyodrębnić w pobliżu powierzchni poddawanych modyfikacji granice zawierające obszary plazmy o różnej intensywności świecenia.

EN

At this work were presented examinations, which take advantage of the optical emission of the high frequency plasma phenomenon to diagnose conditions at the area of plasmo-chemical discharge which are responsible for the coatings deposition. These examinations were executed by registration of visible spectrum of glow discharge using the regular CCD camera. Obtained pictures were put to the computer processing. Using the images analysis methods the transformation of registered pictures were made. This proceedings were conducted to point the optimal sample position in the plasma discharge area.

Słowa kluczowe

PL

plazma w.cz.; emisja optyczna plazmy; konfiguracja elektrody; obszary wyładowania plazmowego

EN

plasma RF; optical emission of plasma; electrode configuration; plasma discharge area

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 6
• Strony: 25--26
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., il.

Twórcy

autor

Grabarczyk J.

• Politechnika Łódzka, Instytut Inżynierii Materiałowej

autor

Lewandowski P.

• Politechnika Łódzka, Instytut Inżynierii Materiałowej

Bibliografia

• 1. Sokołowska A., Michalski A., Olszyna A., Zdunek K.: Niekonwencjonalne metody syntezy materiałów. PWN, Warszawa 1991.
• 2. Simek M., Dilecce G., Benedicts S.: Plasma Chem. Plasma Process. 15 (1995) 427.
• 3. Kim Y. M., Kim J. U., Han J. G.: Investigation on the pulsed DC plasma nitriding with optical emission spectroscopy. Surface and Coatings Technology 151-152 (2002) 227-232.
• 4. Chapman B.: Glow discharge processes. J. Wiley and Sons, 1978.