Przygotowanie mikroskopu sił atomowych do pomiarów nanochropowatości powierzchni rozpylanej jonami : wstęp do analizy fraktalnej

• Autorzy: Marendziak A. , Gotszalk T. , Rangelow I. W. , Wilk J. , Kowalski Z. W.

Warianty tytułu

EN

Preparation of atomic force microscope for nanoroughness measurements of ion sputtered surface as a beginning of fractal analysis

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W opracowaniu przedstawiono wyniki wstępnych badań nad wpływem bombardowania jonowego na zmiany nanochropowatości powierzchni. Skoncentrowano się na podstawowych parametrach, opisujących cechy wertykalne profilu chropowatości, takich jak: średnie arytmetyczne odchylenie profilu chropowatości Ra i średnie kwadratowe odchylenie profilu Rq oraz na dwóch powszechnie stosowanych materiałach - stali nierdzewnej i tytanie. W badaniach stosowano jarzeniowe źródło z wnękową anodą, wytwarzające zneutralizowaną wiązkę jonów kryptonu o energii sięgającej kilku kiloelektronowoltów. Celem było badanie możliwości zastosowania opracowanego na Wydziale mikroskopu sił atomowych oraz oprogramowania do pomiarów nanochropowatości rozpylanej jonami powierzchni i w dalszej kolejności, jej analizy fraktalnej.

EN

This work presents results of initial studies on the influence of ion bombardment on surface nanoroughness modification. We concentrated on most often utilized in the world basic parameters describing vertical features of roughness profile, i.e.: arithmetical mean deviation of the surface profile Ra and the root mean square value of the surface roughness Rq as well as on two commonly used materials - stainless steel and titanium. In our research glow discharge ion gun with hollow anode generating neutralized krypton ion-beam with energy up to several keV was applied. The aim of the work was to investigate the possibility of application of atomic force microscope and software made in our department to nanoroughness measurements of ion sputtered surface and, in the next stage, after gathering sufficient amount of scientific material, its fractal analysis.

Słowa kluczowe

PL

mikroskop sił atomowych; nanochropowatość; rozpylanie jonowe

EN

atomic force microscope; nanoroughness; ion sputtering

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 6
• Strony: 15--17
• Opis fizyczny: Bibliogr. 6 poz., wykr.

Twórcy

autor

Marendziak A.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Gotszalk T.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Rangelow I. W.

• University of Kassel, Germany

autor

Wilk J.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Kowalski Z. W.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• 1. Nowicki B.: Struktura geometryczna. Chropowatość i falistość powierzchni, Wydawnictwa Naukowo-Techniczne, Warszawa 1991.
• 2. Polska Norma PN-87/M-04256/02, Struktura geometryczna powierzchni. Chropowatość powierzchni. Terminologia ogólna.
• 3. Kowalski Z. W.: Morfologia powierzchni rozpylanej jonami - b implikacje technologiczne i biomedyczne. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2001.
• 4. Marendziak A.: Geometryczne pomiary nanostruktur za pomocą mikroskopu bliskich oddziaływań. Rozprawa doktorska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2005.
• 5. Przybylski G., Martan J., Kowalski Z. W.: Fractal analysis of ion-sputtered stainless steel surface. Vacuum 70, 2003, 255-261.
• 6. Wilk J., Kowalski Z. W.: Titanium surface after neutralized ion beam irradiation. Vacuum, 70, 2003, 87-91.