Measurement uncertainty and MEMS

• Autorzy: Weckenmann A. , Wiedenhoefer T.

Warianty tytułu

PL

Niepewność pomiaru i MEMS

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

To ensure interchangeability and make bulk production viable for MEMS, measurement uncertainty has to be taken into account. In Micro- and Nanometrology there still is a lack of models and procedures on how to analyze and interpret the tasks and influences. Additionally, the basic mechanisms currently known are insufficiently examined. The presentation will highlight problems and obstacles specific for determining measurement uncertainty in this field.

PL

W celu zapewnienia zamienności wymiarowej i umożliwienia masowej produkcji MEMS, trzeba wziąć pod uwagę niepewność pomiaru. W mikro-i nanotechnologii wciąż brak jest modeli oraz procedur analizy i interpretacji zadań i wpływów. Ponadto znane dziś podstawowe mechanizmy są niewystarczająco przebadane. Artykuł uwypukla specyficzne problemy i przeszkody przy określaniu niepewności pomiaru w tym obszarze.

Słowa kluczowe

EN

measurement; uncertainty; MEMS; GUM; calibration; standard

PL

pomiar; niepewność; MEMS; GUM przewodnik do wyrażania niepewności w pomiarach; wzorcowanie; wzorzec

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 46, nr 10
• Strony: 51--53
• Opis fizyczny: Bibliogr. 14 poz., il., schem., wykr.

Twórcy

autor

Weckenmann A.

• Chair Quality Management and Manufacturing Metrology, University Erlangen-Nuremberg, Erlangen, Germany

autor

Wiedenhoefer T.

• Chair Quality Management and Manufacturing Metrology, University Erlangen-Nuremberg, Erlangen, Germany

Bibliografia

• 1. Ehrfeld W.; et. al.: Handbuch Mikrotechnik. Miinchen: Carl Hanser Verlag, 2002.
• 2. Wang S. H., Quan C.; Tay C.J.; Reading I.; Fang Z. P.: Deformation measurement of MEMS components using optical interferometry. In. Measurement Science and Technology, May 2003.
• 3. Weckenmann A.; Wiedenhoefer Th.: Measurement Uncertainty in Nanometrology - an exemplary application on Nanoscratches, EUSPEN 2004.
• 4. N. N.: Opto-taktiler Tasterzur Messung kleiner Bohrungen und 3D Mikrostrukturen. http:// www.ptb.de/de/org/5/53/f_vorhaben/optotakiler_taster.html; Braunschweig, 2004.
• 5. McNie M.: Metrology of materials for improved design in MEMS processes. International Seminar MEMSTAND, Barcelona, 24 "’-26"’ Feb. 2003. - Proceedings.
• 6. Bergman R., Schmit J.: On the role of national metrology institutes in the field of nanometrology. International Seminar MEMSTAND, Barcelona, 24"’-26,h Feb. 2003. - Proceedings.
• 7. Haitjema H.; van Seggelen J.K.; Schellekens P H. J.; Pril W.O.; Puik E.: Metrology for MEMS;, MEMS for Metrology. International Seminar MEMSTAND, Barcelona, 24"’-26"’ Feb. 2003. - Proceedings.
• 8. DIN-Seminar: „Messunsicherheit nach GUM -praxisgerecht mit Rechnerunterstiitzung bestimmen”. 2004.
• 9. Weckenmann A.; WiedenhóferTh.; Sommer K.-D.: Messunsicherheitsbestimmung in der Nanotechnologie am Beispiel eines Nanoclusters. In. Technisches Messen tm 2 (2004), p. 93-100.
• 10. Usuda T.: Measurement and Calibration Uncertainty in MEMS Metrology; International Seminar MEMSTAND, Barcelona, 24't'-26'h Feb. 2003. - Proceedings.
• 11. N. N.: ISO „Guide to the Expression of Uncertainty in Measurement". Gent, 1993.
• 12. Sham G.: Anti-Optimization; http://socm.wbmt.tudelft.nl/~gurav/antiopt.html, 2004.
• 13. Behringer U.: International Seminar MEMSTAND, Barcelona, 24"’-26"’ Feb. 2003. - Proceedings.
• 14. N.N.: FaulhaberMikro-Antriebsysteme, http:// www.faulhaber.de/produkte/prod_/4.htm. Faulhaber GmbH/Germany, 2004.