Tytuł artykułu
Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
The influence of aromatic halogen derivative on the degradation of polystyrene
Konferencja
Modyfikacja polimerów. 15 Konferencja naukowa. 19-21.09.2001 ; Świeradów Zdrój, Polska
Języki publikacji
Abstrakty
Celem pracy było zbadanie wpływu niewielkiej ilości chlorku benzylu (chB) i 1-chlorometylonaftalenu (chmNf) na przemiany fotochemiczne zachodzące w polistyrenie (PS), tj. degradację, sieciowanie, utlenianie i tworzenie wiązań podwójnych. Do badań użyto handlowego polistyrenu o liczbowo średnim ciężarze cząsteczkowym Mn=110000g/mol. Mieszano ze sobą 2%-owe benzenowe roztwory PS i dodatków w stosunku objętościowym 99:1. Próbki do badań w postaci cienkich filmów o grubości 20[mi]m uzyskano przez odparowanie rozpuszczalnika. Naświetlano je niskociśnieniową lampą rtęciową TUV 30W, emitującą światło o długości 254 nm. Próbki analizowano spektrofotometrycznie przy użyciu spektrofotometru FTIR Genesis II, spektrofotometru UV-1601PC. Wykonano również analizę GPC wykorzystując dwudetektorowy chromatograf żelowy firmy Viscotek.
The aim of this work was to study the influence of small amout (1% wt) of benzyl chloride and 1(chloromethyl) naphthalene on photochemical transformations in polystyrene (degradation, crosslinking, oxidation, double bond formation). Commercial PS with Mn=110000 g/mol was used in this study. 2%-solutions of PS and organic compounds in benzene were mixed. This films (20 [mi]m thick) were obtained by solvent evaporation. The samples were exposed to low-pressure mercury lamp emitting 254 nm irradiation. Irradiated samples were investigated by FTIR (Genesis II) and UV-Vis (UV-1601PC) spectroscopy. GPC (Viscotek) analysis was also performed.
Rocznik
Tom
Strony
254--257
Opis fizyczny
Bibliogr. 3 poz., il., tab.
Twórcy
autor
autor
autor
- Uniwersytet Mikołaja Kopernika, Wydział Chemii, Gagarina 7, 87-100 Toruń
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWA0-0001-0083