Isoelectric Point of Si3N4 Measured by an Atomic Force Microscopy

• Autorzy: Zhang H. , He H. -X. , Liu Z. -F.
• Języki publikacji: EN
• Wydawca: Polskie Towarzystwo Chemiczne
• Czasopismo: Polish Journal of Chemistry
• Rocznik: 2000
• Tom: Vol. 74, nr 10
• Strony: 1499--1502
• Opis fizyczny: Bibliogr. 19 poz., rys.

Twórcy

autor

Zhang H.

autor

He H. -X.

autor

Liu Z. -F.

• Center for Nanoscale Science and Technology (CNST), College of Chemistry and Molecular Engineering, Peking University, Beijing 100871, China