Coupled Discharge for Nitrous Oxide Processing

• Autorzy: Krawczyk K. , Naperty K. , Drozdowski M.
• Języki publikacji: EN
• Wydawca: Polskie Towarzystwo Chemiczne
• Czasopismo: Polish Journal of Chemistry
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 80, nr 10
• Strony: 1763--1766

Twórcy

autor

Krawczyk K.

autor

Naperty K.

autor

Drozdowski M.

• Faculty of Chemistry, Warsaw University of Technology, Noakowskiego 3,00-664 Warszawa, Poland

Bibliografia

• 1.Wójtowicz M. A., Miknis F.P., Grimes R.W., Smith W.W. and Serio M. A., J. of Hazardous Materials 81 (2000).
• 2.Czemichowski A., Pure & Appl.. Chem., 66,1301 (1994).
• 3.Schmidt-Szałowski K., OpalińskaT., Sentek J., Krawczyk K., Ruszniak J., Zieliński T. and Radot J. Adv, Oxid. TechnoL, 7,45 (2004).
• 4.Opalska A., Ph.D. Thesis, Warsaw University of Technology, 2004.
• 5.Krawczyk K. and Młotek M., Appl.. Catal. B: Environmental, 30,233 (2001).
• 6.Krawczyk K. and Ulejczyk B., Plasma Chem. Plasma Proc., 30,155 (2003).
• 7.Jasiński M., Czylkowski D., Zakrzewski Z. and Mizeraczyk J., Czech. J. of Phys. Suppl. C,(2004).
• 8.Tsuji M., Kumagae J., Nakano K., Matsuzaki T. and Tsuji T., Appl. Surf. Sci., 217,134 (201
• 9.Appleton T.J., ColderR.I., Kingman S.W.,Lowndes I.S. and Read A.G., Appl. Energy, 81,85 (2005)
• 10.Krawczyk K., Schmidt-Szałowski K. and Reszke E., Polish Patent Appl., 372039, (2004).