Computer simulation of reflection high energy electrondiffraction from ultrathin iron layers

• Autorzy: Mitura Z. , Whelan M.

Warianty tytułu

PL

Komputerowa symulacja odbiciowej dyfrakcji wysokoenergetycznych elektronów dla przypadku ultracienkich warstw żelaza

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The results of research work on development of new applications of electron diffraction in metallurgy and materials sience are presented. Namely, we investigate in detail the consequences of the use of reflection geometry which enables "in-situ" examination of a material surface during a selected technological process. We demonstrate that in theoretical interpretation of experimental data collected in such a geometry it is essential to take care about the refraction effects. It means that analyzing experimental data one must account not only the geometrical arrangement of atoms at the surface but also specific values of the scattering potential.

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań nad opracowaniem nowych zastosowań dyfrakcji elektronowej w metalurgii i inżynierii materiałowej. W szczególności badane są konsekwencje użycia geometrii odbiciowej, która umożliwia charakteryzację powierzchni materiału bezpośrednio poddanemu procesowi technologicznemu. Zademonstrowano, że teoretyczna interpretacja wyników musi w takim przypadku uwzględniać efekty refrakcji. Oznacza to. że każdy badacz analizujący dane doświadczalne powinien brać pod uwagę w swoich rozważaniach nic tylko ułożenie atomów przy powierzchni lecz także informację o wartościach potencjału rozpraszającego.

• Wydawca: Wydawnictwo Naukowe PWN SA
• Czasopismo: Archives of Metallurgy
• Rocznik: 2000
• Tom: Vol. 45, iss. 4
• Strony: 371--379
• Opis fizyczny: Bibliogr. 17 poz., rys., wzory

Twórcy

autor

Mitura Z.

• Wydział Metalurgii i Inżynierii Materiałowej AGH, 30-059 Kraków, Al. Mickiewicza 30

autor

Whelan M.

• Department of Mateials, University of Oxford, Parks Road, Oxford OXI 3PH, UK

Bibliografia

• [1] P. Hirsch, A. Howie, R. Nicholson, D. W. Pashley, M. J. Whelan, Electron Microscopy of Thin Crystals (Krieger, Malabar, 1977).
• [2] J. J. Harris, B. A. Joyce, P. J. Dobson, Surface Sci. 103, L90(1981), C. E C. Wood. Surface Sci. 108, L444 (1981)
• [3] J. H. Neave, B. A. Joyce, P. J. Dobson, N. Norton, Appl. Phys. A31, 1 (1983).
• [4] J. M. Van Hove, C.S. Lent, P. R. Pukite, P. I. Cohen, J. Vac Sci. Technol. B1, 741 (1983).
• [5] P. A. Doyle, P. S. Turner, Acta Cryst. A24, 390 (1968).
• [6] Z. Mitura, Surf. Rev. Lett. 6, 497 (1999).
• [7] P. K. Larsen, P. J. Dobson, J. H. Neave, B. A. Joyce, B. Bölger, J. Zhang, Surface Sci. 169, 176 (1986).
• [8] L-M. Peng, M. J. Whelan, Surface Sci. 238, L446 (1990).
• [9] Z. Mitura, PhD thesis (MCS Univ., Lublin, 1991), in Polish
• [10] Y. Hotio, A Ichimiya, Surface Sci. 298, 261 (1993).
• [11] Z. Mitura, M. Stróżak, M. Jałochowski, Surface Sci. 276, L15 (1992).
• [12] Y. Horio, A. Ichimiya, Jpn. J. Appl. Phys. 33, L377 (1994).
• [13] A. Daniluk, P. Mazurek, P. Mikołajczak, Surface Sci. 369, 91 (1996).
• [14] Z. Mitura, S. L. Dudarev, M. J. Whelan, Phys. Rev. B57, 6309 (1998).
• [15] W. Braun, L. Daweritz, K. H. Ploog, Phys. Rev. Lett. 80, 4935 (1998).
• [16] S. T. Purcell, A. S. Arrott, B. Heinrich, J. Vac Sci. Technol. B6, 794 (1988).
• [17] G. Gładyszewski, C. Jaouen, A. Declcmy, J. C. Girard, P. Guerin, Thin Solid Films 319, 44 (1998).