Sterowanie procesem reaktywnego rozpylania magnetronowego

• Autorzy: Stec A.

Warianty tytułu

EN

Process control of reactive magnetron sputtering

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono wybrane zagadnienia związane ze sterowaniem procesem rektywnego rozpylania magnetronowego. Omówiono najczęściej stosowane metody sterowania. Przedstawiono zależność opisującą charakterystykę prądowo-napięciową oraz sposób modelowania dynamiki procesu związanego z reaktywnym rozpylaniem. Zaproponowano układ regulacji do pracy w trybie przejściowym.

EN

Some aspects of reactive sputtering process control are presented. Most popular control methods are described. current-voltage relation and modelling dynamics of reactive sputtering are presented. Block diagram of a feedback system is proposed.

Słowa kluczowe

PL

reaktywne rozpylanie; magnetron

EN

reactive sputtering; magnetron

• Wydawca: Wydawnictwo PAK
• Czasopismo: Pomiary Automatyka Kontrola
• Rocznik: 2005
• Tom: R. 51, nr 1
• Strony: 53--55
• Opis fizyczny: bibliogr. 7 poz., rys., wykr., wzory

Twórcy

autor

Stec A.

• Katedra Informatyki i Automatyki, Politechnika Rzeszowska,

Bibliografia

• [1] H. Czternastek, A. Brudnik, M. Jachimowski, E. Kolawa: Voltage-controlled DC reactive magnetron sputtering of indium-doped zinc oxide films, J. Phys. D: Appl. Phys., 25, 1992, pp. 865-870
• [2] J. Chapin, C. R. Condon: U.S. Patent 4166784, 1979. 1-10.
• [3] U. Heister, J. Krempel-Hesse, J. Szczyrbowski, G. Teschner, J. Bruch, G. Brauer: Twin Mag II: Improving an advanced sputtering tool, Vacuum, 59, 2000, pp. 424-430.
• [4] W. M. Posadowski: Pulsed magnetron sputtering of reactive compounds. Thin Solid Films, 343-344, 1999, pp. 85-89.
• [5] A. Stec: Metoda kontroli stanu plazmy podczas magnetronowego wyładowania jarzeniowego. Rozprawa doktorska. Politechnika Rzeszowska, 2004.
• [6] J. A.Thornton: Magnetron sputtering: basic physics and application to cylindrical magnetrons, J. Vac. Sci. Technol., vol. 15, no. 2, 1978. pp. 171-177.
• [7J A. Stec: Szacowanie stopnia utlenienia katody magnetronu na podstawie charakterystyki prądowo-napięciowej. Prace Naukowe PW Elektronika z. 143, 2002, s. 131-134.