The comparison of the structural properties of multilayered systems Cu/Ni obtained by the electrochemical and face-to-face sputtering methods

• Autorzy: Gągorowska B. , Duś-Sitek M.

Warianty tytułu

PL

Porównanie właściwości strukturalnych układów wielowarstwowych Cu/Ni uzyskanych metodą elektrochemiczną i rozpylenia jonowego ściskającego

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The investigations of the structural properties of Cu/Ni multilayer systems for following samples: Si(100)/[Cu(20Å)/Ni(t)] x 100, Si(100)/[Ni(20 Å)/Cu(t)] x 100 were performed. The samples were produced using electrochemical and face-to-face sputtering methods. It was affirmed that multilayers obtained by face-to-face sputtering method, in comparison with samples obtained by electrochemical method, were characterized by better quality of the structure. The samples madę by the face-to-face sputtering method have smaller value of the interface roughness, higher quantity and quality of satellite peaks. The half widths of peaks for both superlattices are similar. Additionally, in reflectivity measurements the presence of Bragg peaks was stated. They are used to determine the value of period of the multilayer system. These type of peaks was not present in samples madę by electrochemical method.

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań właściwości strukturalnych układów wielowarstwowych Cu/Ni. Wielowarstwy te otrzymano dwoma metodami: elektrochemiczną oraz rozpylenia jonowego. Na podstawie przeprowadzonych badań udowodniono, że próbki uzyskane metodą rozpylenia jonowego charakteryzują się lepszą jakością struktury. Przejawia się to: w mniejszej wartości szorstkości, obecnością wierzchołków satelitarnych, zbliżoną wartością szerokości połówkowej wierzchołków supersieci.

Słowa kluczowe

EN

multilayer system; electrochemical and face-to-face sputtering methods; satellite peaks

PL

układy wielowarstwowe; metoda elektrochemiczna i rozpylenia jonowego ściskającego; wierzchołki satelitarne

• Wydawca: Institute of Metallurgy and Materials Science of Polish Academy of Sciences ; Committee of Materials Engineering and Metallurgy of Polish Academy of Sciences
• Czasopismo: Archives of Metallurgy and Materials
• Rocznik: 2008
• Tom: Vol. 53, iss. 3
• Strony: 909--917
• Opis fizyczny: Bibliogr. 5 poz. rys.

Twórcy

autor

Gągorowska B.

autor

Duś-Sitek M.

• FACULTY OF MATERIALS PROCESSING TECHNOLOGY AND APPLIED PHYSICS. INSTITUTE OF PHYSICS, CZĘSTOCHOWA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY, 42-200 CZĘSTOCHOWA, 19 ARMII KRAJOWEJ AV., POLAND

Bibliografia

• [1] G. Gładyszewski, S. Labat, P. Gcrgaud, O. Thomas, Structure characterization ofmetalic multilayers by symmetńc and asymmetic X-ray diffraction, Thin Solid Films 319, 78-80 (1998).
• [2] G. Reiss, L. Van Loyen, T. Lucinski, D. Elefant, H. Bruckl, N. Mattern, R. Rennekamp, W. Ernst, Presence and absence of an-tiferromagnetic coupling and giant magnetoresistance in sputtered and evaporated permalloy/copper multilayers, J. Magn. Magn. Mat. 184 281-288 (1998).
• [3] A. Tokarz, T. Frączek, Z. Bałaga, Z. Nitkiewicz, Structure, hardness and thermal stabil-ity of electrodeposited Cu/Ni nanostructured multilayers, Rev. Adv. Mater. Sci. 15 247-252 (2007).
• [4] A. Tokarz, Electrochemical synthesis and structural properties of Cu/Ni multilayers, Polish Journal of Applied Chemistry XLIX, 4, 283-289 (2005).
• [5] S. Kraegermann, K. Chrzumnicka, F. Stobiecki, H. Rohrmann, K. Roll, J. Magn. Magn. Mat. 140-144, 593-594 (1995).