The influence of surface texture and temperature deposition of TiO2 layer on crystalline silicon solar cells parameters

• Autorzy: Panek P. , Drabczyk K. , Czternastek H. , Kusior E. , Zięba P. , Bełtowska-Lehman E.

Warianty tytułu

PL

Wpływ tekstury powierzchniowej i temperatury osadzania warstwy TiO2 na parametry krzemowych krystalicznych ogniw słonecznych

• Konferencja: SOTAMA Symposium on Texture and Microstructure Analysis (2; 26-28.09.2007; Cracow, Poland)
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

In the present work, the investigation of the titanium dioxide (TiO2) thin layer as an antireflection coating for silicon solar cells are presented. The TiO 2 layers were obtained by the chemical vapour deposition method using tetracthylorthotitanat (C2H5 O)Ti at temperatures of the silicon wafers in the range from 150°C to 400°C. It has been established that all of the obtained TiO 2 layers contain anatase phase embedded in the amorphous background. A progress of the crystallization process with the increasing temperature of the substrate during the deposition has been observed. The change in opto-electronic parameters of silicon solar cells as a function of the deposition temperature of the antireflection coating has been discussed, taking into account the evolution of the crystallographic structure.

PL

Praca przedstawia wyniki badań poświęconych zastosowaniu cienkich warstw TiO2 jako powłok antyrefleksyjnych dla krzemowych ogniw słonecznych. Warstwy TiO2 wytwarzano metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD) ze irOdla ortotytanianutetraetylu (C 2H5 O)Ti w zakresie temperatur płytek krzemowych od 150°C do 400°C. Stwierdzono, że wszystkie otrzymane warstwy TiO2 charakteryzowały się amorficzną strukturą z wbudowaną fazą anatazu. Zaobserwowano zwiększenie udziału fazy krystalicznej ze wzrostem temperatury krzemowego podłoża. Określono i przedyskutowano zmiany wartości parametrów opto-elektronicznych krzemowych ogniw słonecznych w funkcji temperatury osadzania warstw antyrefleksyjnych Ti02.

Słowa kluczowe

EN

titanium dioxide; antireflection coating; crystalline silicon solar cell

PL

powłoki antyrefleksyjne; krzemowe ogniwa słoneczne; dwutlenek tytanu

• Wydawca: Institute of Metallurgy and Materials Science of Polish Academy of Sciences ; Committee of Materials Engineering and Metallurgy of Polish Academy of Sciences
• Czasopismo: Archives of Metallurgy and Materials
• Rocznik: 2008
• Tom: Vol. 53, iss. 1
• Strony: 103--106
• Opis fizyczny: Bibliogr. 6 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Panek P.

autor

Drabczyk K.

autor

Czternastek H.

autor

Kusior E.

autor

Zięba P.

autor

Bełtowska-Lehman E.

• INSTITUTE OF METALLURGY AND MATERIALS SCIENCE, POLISH ACADEMY OF SCIENCES, 30-059 KRAKOW, 25 REYMONTA STR., POLAND

Bibliografia

• [1] P. Maycock, T. Bradford, PV Market Update: Demand Grows Quickly and Supply Races to Catch Up, www. Renewable-energy-world.com , 10, 2007.
• [2] P. Panek, M. Lipinski, E. Beltowska-Lehman, K. Drabczyk,R. Ciach, Industrial Technology of Multicrystalline Silicon Solar Cells, Opto-Electr. Rev. 11, 4, 269-275, 2003.
• [3] P. F. Fewster, X-ray Analysis of Thin Films and Multilayers, Rep. Prog. Phys., 59, 1339-1407, 1996.
• [4] J. H. Simmons, K. S. Potter, Optical Materials, Academic Press, 2000.
• [5] N. Ozer, H. Demiryoatt, J. H. Simmons, Appl. Opt. 30, 3661, 1991.
• [6] K. Okima, Low Temperature Growth of Rutile TiO2 Films in Modified rf magnetron sputtering, Surf. Coat. Technol. 135, 286, 2001.