Electrodeposition of AgSe coatings

• Autorzy: Dobrovolska T. S. , Fitzner K.

Warianty tytułu

PL

Elektroosadzanie cienkich warstw Ag-Se

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Silver–selenide coatings with different content of Se have been electrodeposited galvanostatically onto copper substrate from aqueous acid solutions, containing silver iodide complex. By cyclic voltammetry was established that electrodeposition of the Ag-Se system was characterized by two cathodic maxima onto Pt substrate; pure silver is deposited during the first cathodic reaction and the next phase of Ag-Se system are formed at more negative potentials than the potential of silver deposition. By X- Ray analysis was confirmed, that in deposit Ag2Se phase is presented with excess of Ag. SEM shows that nearly stoichiometric Ag2Se deposit has dendritic morphology.

PL

Stosując metodę galwanostatyczną osadzono na miedzi warstwy selenku srebra o zmiennej zawartości selenu. Proces elektrolizy prowadzono stosując wodne roztwory zawierające kompleksy jodku srebra. Badania przeprowadzone metodą cyklicznej woltamperometrii pokazały istnienie dwóch pików: w pierwszej kolejności obserwujemy redukcję srebra, a następnie tworzenie się fazy Ag2Se. Ta druga reakcja zachodzi przy potencjale bardziej ujemnym niż potencjał osadzania Ag. Analiza rentgenowska wykazała, że powłoka otrzymana metodą galwanostatyczną zawiera nadmiar srebra. Dokładna analiza z wykorzystaniem SEM sugeruje, że faza o składzie zbliżonym do stechiometrycznego związku Ag2Se ma forme dendrytów.

Słowa kluczowe

EN

cyclic voltammetry; electrodeposition; IODIDE ELECTROLYTE; SILVER SELENIDE; SEMICONDUCTOR

PL

chromowoltamperometria cykliczna; elektroosadzanie; selenek srebra; półprzewodnik

• Wydawca: Institute of Metallurgy and Materials Science of Polish Academy of Sciences ; Committee of Materials Engineering and Metallurgy of Polish Academy of Sciences
• Czasopismo: Archives of Metallurgy and Materials
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 50, iss. 4
• Strony: 1017--1026
• Opis fizyczny: Bibliogr. 24 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Dobrovolska T. S.

• Laboratory of Physical Chemistry and Electrochemistry, Faculty of Non-Ferrous Metals, AGH University of Science and Technology, 30-059 Kraków Al. Mickiewicza 30

autor

Fitzner K.

• Laboratory of Physical Chemistry and Electrochemistry, Faculty of Non-Ferrous Metals, AGH University of Science and Technology, 30-059 Kraków Al. Mickiewicza 30

Bibliografia

• [1] B. Predel, in Phase equilibria. Crystallographic and Thermodynamic Data of Binary alloys, ed. by O.Madelung. Springer-Verlag, Berlin, Heidelberg, (1998).
• [2] R. Daleven, R. Gill, J.Appl. Phys. 38, 753-756 (1967).
• [3] P. K. Khanna, B. K. Das, Materials Letters 58, 1030-1034 (2004).
• [4] Y. Ulsugi, Y. Watanabe, X Nagamura, J. Non-CrystSolids, 326- 327. 226-232 (2003) .
• [5] M. T. Neshkova, E. M. Pancheva, Analytica Chimica Acta 242, 73- 83 (1991).
• [6] G. Papeschi. Sensors and Actuators B, 24-25, 336-340 (1995).
• [7] R. Xu, A. Husmann, T. F. Rosenbaum, M. L. Saboungi, J. E. Enderby, P. B. Littlewood, Nature (London) 390. 57-60 (1997).
• [8] M. Lee, T. F. Rosenbaum, M.-L. Saboungi. H. S. Schnyders, Phys.Rev. Let 88 (6). 066602 (2002).
• [9] B. Pejova, M. Najdoski, I. Grozdanov, S. K. Dey, Materials Letters 43, 269-273 (2000).
• [10] J. Xiao, Y. Xie, R. Tang,W. Luo, J. Mater Chem. 12,1148-1151(2002).
• [11] G. Shaw, D. Morrison, I.. Parkin, J.Chem. Soc., Dalton Trans. 1872- 1875 (2001).
• [12] R. Chen, D. Xu, G. Guo, L. Gui, Electrochem.Communications 5. 579-583 (2003).
• [13] F. A. Kroger, J.Electrochcm. Soc, Solid -State science and technology 125 (12), 2028-2034 (1978).
• [14] H. Gobrecht, H.-D. Leiss. A. Tausend. A, Bersunsenges.physik. Chem. 67, 930-931 (1963).
• [15] E. Pacauskas, J. Janickis, I. Lasaviciene, Trudy Akademii nauk Litovskoj SSR, SerB 2(65), 61-71 (1971).
• [16] M. David, R. Modolo, M. Traore, O. Villori, Electrochimica Acta 31 (7), 851-858 (1986).
• [17] M. T. Neshkova, E. M. Pancheva, Electroanalysis 8 (6), 557-564 (19%).
• [18] M. T. Neshkova, V. D. Nikolova,V. Petrov, J. of Electroanal. Chem. 487, 100-110 (2000).
• [19] R. Chen, D. Xu, G. Guo, Y. Tang, J. Materials Chem. 12, 1437-1441 (2002).
• [20] R. Kowalik, K. Fitzner, Metallurgy and Foundry Engineering 30 (2), 129-141 (2004) .
• [21] R. M. Vjacheslavov, S. J. Grilihies, G. K. Burkat, E. G. Kruglova, in Galvanotechnika blagorodnih i redkih metallov. Mashinostroenie, Leningrad, 5 (1970).
• [22] F. Fourcade, T. Tzedakis, J. of Electroanal. Chemistry 493, 20-27 (2000).
• [23] L. I. Elding, L. F. Olsson, Inorg. Chem. 21, 779-784 (1982).
• [24] Ts. Dobrovolska, R. Kowalik, K. Fitzner, (in preparation)