Low-temperature plasma for exhaust gas purification from paint shop - a case study

• Autorzy: Pawłat J. , Diatczyk J. , Stryczewska H. D.

Warianty tytułu

PL

Plazma niskotemperaturowa do oczyszczania gazów odlotowych z lakierni

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Devices generating and using non-thermal plasma are often critical parts of industrial set-ups, for purification of exhaust gases. Many research groups work on improvements of plasma generators for ozone (alone or in combination with other oxidants such as H2O2, OH radicals, etc.) production. Such oxidants' generators can be successfully applied in the case of "point" gas emissions like chimneys of factories or farms and also for "line" emissions caused by road traffic. Presented work describes plasma generator used for the treatment of factory exhaust gas containing hydrocarbons. Data from plasma burn-up of gas from mold painting factory using gliding arc reactor are presented.

PL

Urządzenia do generowania i zastosowań plazmy niskotemperaturowej są niejednokrotnie ważnymi elementami instalacji przemysłowych do oczyszczania gazów odlotowych. Wiele grup badawczych pracuje nad udoskonaleniem generatorów różnorakich związków utleniających stosowanych do rozkładu polutantów biologiczno-chemicznych. Reaktory plazmowe mogą być używane zarówno w przypadku zanieczyszczeń punktowych takich jak kominy fabryk czy farmy jak też do kontroli zanieczyszczeń liniowych powodowanych przez ruch uliczny. Praca przedstawia generator plazmowy ze ślizgającym się łukiem stosowany do usuwania związków zawierających węglowodory Analizowany jest przypadek plazmowego dopalania gazów odlotowych z lakierni zakładu odlewniczego.

Słowa kluczowe

EN

gliding arc plasma; paint shop exhaust gas; gas treatment

PL

plazma generowana w ślizgającym się łuku; gazy odlotowe z lakierni; oczyszczanie gazów odlotowych

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2011
• Tom: R. 87, nr 1
• Strony: 245--248
• Opis fizyczny: Bibliogr. 23 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Pawłat J.

autor

Diatczyk J.

autor

Stryczewska H. D.

• Institute of Electrical Engineering and Electrotechnology Faculty of Electrical Engineering and Computer Science Lublin University of Technology, 38A Nadbystrzycka St., 20-618 Lublin,

Bibliografia

• [1]http://www.unece.org/env/lrtap/full%20text/1999%20Multi.E.Amended.2005.pdf
• [2] C. Ayrault, J. Barrault, N. Blin-Simiand, F. Jorand, S. Pasquiers, A. Rousseau, J. Tatibouët, Catalysis Today vol. 89, (2004), 75
• [3] K. Urashima, J. Chang, IEEE Trans. Ind. Appl. 7/5, (2000), 602.
• [4] K. Francke, H. Miessner, R. Rudolph, Plasma Chem. Plasma Process. 20, (2000), 393.
• [5] T. Oda, J. Electrostat. 57, (2003), 293.
• [6] C. Subrahmanyam, A. Renken, L. Kiwi-Minsker, Chemical Engineering Journal, 134, (2007), 78.
• [7] G. Tak, M. Gallagher, S. Gangoli, A. Gutsol, A. Fridman, 32nd IEEE International Conference on Plasma Science, Monterey, California, (2005).
• [8] H. Stryczewska, K. Ebihara, Y. Gyoutoku, M. Tachibana, 9th International Conference: High Pressure, Low Temperature Plasma Chemistry, Padova, Italy, (2004).
• [9] Stryczewska, H., Ebihara, K., Janowski, T., Zrównoważone Systemy Energetyczne – Nowe Kierunki Wytwarzania i Wykorzystywania Energii, Zakopane, Poland, 2005.
• [10] Czernichowski, A., Lesueur, H., Plasma Appl. To Waste Treatment First Annual INEL, Idaho Falls, USA, 1991.
• [11] U. Kogelschatz, Plasma Chem. Plasma Process. , 23, (2003), 1.
• [12] F. Holzer, U. Roland, F. Kopinke, Appl. Catal. B: Environ., 38, (2002), 163.
• [13] J. Van Durme, J. Dewulf, W. Sysmans, C. Leys, H. Van Langenhove, Chemosphere 68, (2007), 1821.
• [14] H. Kim, G. Prieto, K. Takashima, S. Katsura, A. Mizuno, Journal of Electrostatics, 55, (2002), 25.
• [15] N. Harada, T. Matsuyama, H. Yamamoto, Journal of Electrostatics, 65, (2007), 43.
• [16] S. Rubio, M. Quintero, A. Rodero, J. Fernandez Rodriguez, Journal of Hazardous Materials, 148, (2007), 419.
• [17] A. Fridman, S. Nester, L. Kennedy, A. Saveliev, O. Mutaf- Yardimci, Progress in Energy and Combustion Science, 25, (1999), 211.
• [18] A. Indarto, D. Yang, C. Azhari, W. Wan Mohtar, J. Choi, H. Lee, H. Song, Chemical Engineering Journal, 131, (2007), 337.
• [19] R. Burlica, M. Kirkpatrick, B. Locke, Journal of Electrostatics, 64, (2006), 35.
• [20] K. Marouf-Khelifa, F. Abdelmalek, A. Khelifa, M. Belhadj, A. Addou, J.-L. Brisset, Separation and Purification Technology, 50/3, (2006), 373.
• [21] A. Doubla, L. Bouba Bello, M. Fotso, J.-L. Brisset, Dyes and Pigments, 77, (2008), 118.
• [22] H. Stryczewska, Elektromagnetyczny układ zasilania reaktorów plazmowych ze ślizgającym się wyładowaniem łukowym, Prace Naukowe Politechniki Lubelskiej, Elektryka, (1998).
• [23] H. Stryczewska, T. Janowski, Zasilacz reaktora plazmowego, Patent P-339397, (2000).