Tytuł artykułu
Identyfikatory
Warianty tytułu
Konferencja
International Conference on Sol-Gel materials SGM 2001, Rokosowo, Poland
Języki publikacji
Abstrakty
Colloidal silica can be used for final general metallographic polishing. It is used to polish single crystal silicon for electronic applications and, subsequently, polycrystalline silicon for solar cells, gallium arsenide, indium phosphide, titanium, gadolinium gallium garnet and sapphire. The silica dioxide are dispersed in water with alkaline compound added to obtain the desired pH.
Słowa kluczowe
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
19--22
Opis fizyczny
Bibliogr. 4 poz.,
Twórcy
autor
autor
autor
autor
autor
autor
autor
- AMRL, F. Skorina Gomel State University, Gomel, Belarus
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPW7-0006-0017