Preparation and properties of colloidal nanosize silica dioxide for polishing of monocrystalline silicon wafers

• Autorzy: Gaishun V. E. , Tulenkova O. I. , Melnichenko I. M. , Baryshnin S. A. , Potapenok Y. A. , Xlebokazov A. P. , Stręk W.
• Konferencja: International Conference on Sol-Gel materials SGM 2001, Rokosowo, Poland
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Colloidal silica can be used for final general metallographic polishing. It is used to polish single crystal silicon for electronic applications and, subsequently, polycrystalline silicon for solar cells, gallium arsenide, indium phosphide, titanium, gadolinium gallium garnet and sapphire. The silica dioxide are dispersed in water with alkaline compound added to obtain the desired pH.

Słowa kluczowe

EN

colloidal silica; metallographic polishing; silicon

• Wydawca: Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
• Czasopismo: Materials Science
• Rocznik: 2002
• Tom: Vol. 20, No. 2
• Strony: 19--22
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz.,

Twórcy

autor

Gaishun V. E.

autor

Tulenkova O. I.

autor

Melnichenko I. M.

autor

Baryshnin S. A.

autor

Potapenok Y. A.

autor

Xlebokazov A. P.

autor

Stręk W.

• AMRL, F. Skorina Gomel State University, Gomel, Belarus