Tytuł artykułu
Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
Języki publikacji
Abstrakty
Computer simulation of AlGaN/GaN heterostructure heterostructure field effect transitior (HFET) and metal–semiconductor–metal (MSM) photodetector has been performed. The influence of AlGaN layer thickness and background electron concentration, as well as piezoelectric effect, on devices’ parameters has been investigated. The results confirm the great importance of keeping low background electron concentration. The superiority of devices with AlGaN layer applied is shown. Thickness of AlGaN layer is not an important factor.
Słowa kluczowe
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
485--491
Opis fizyczny
bibliogr. 3 poz.
Twórcy
autor
autor
- The Faculty of Microsystems Electronics and Photonic, Wrocław University of Technology, ul. Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wrocław
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPW1-0013-0073