Struktura i rozkład przestrzenny cząstek metaliczny transportowanych w wyładowaniu łukowym w próżni

• Autorzy: Kutzner J. , Stachowiak Z.

Warianty tytułu

EN

Structure and spatial distribution of metal particles transported in a vacuum arc discharge.

• Konferencja: IV Konferencja naukowa. Postępy w elektrotechnologii. Jamrozowa Polana, 14-15.09.2000 r.
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W referacie przedstawiono wyniki badań rozkładu cząstek emitowanych z elektrod w łuku wielkoprądowym w próżni. Badania przeprowadzono przy prądzie 2 kA na elektrodach Ni, Cu, CuCr25 rozdzielonych na odległość 11 mm. Do określenia rozkładu przestrzennego wykorzystano kolektory pierścieniowe (metalowe) oraz płaskie płytki ze szkła optycznego, na których tworzone były warstwy metaliczne jako rezultat kolekcji strumieni cząstek emitowanych z katody. W badaniach zastosowano trzy metody pomiaru masy osadzonej na kolektorach: ważenie depozytu masy, analizę grubości warstwy mikrodensytometrem optycznym, oraz analizę mikroskopową makrocząstek. Określono rozkłady przestrzenne masy opisane przez funkcję rozkładu azymutowego i radialnego. Oba rozkłady są anizotropowe a struktura warstwy osadowej zależy od kąta padania cząstek na powierzchnię i gęstość strumienia cząstek.

EN

The mass distribution of particles produced in the high-current vacuum arc was investigated. The expts. were concd. on evaluating the spatial mass distribution emitted in radial as well as in azimuthal directions calcd. from mass deposition profile on the collectors surrounding the arc discharge. The high-current arcs of 2 kA were drawn between butt contacts of 20 and 34 mm in diam. (anode and cathode resp.) both of Ni, Cu and CuCr25. The surface mass deposit along the multisegment collectors were measured by micro-densitometer, the optical microscope. Two angular mass deposit distribution were detd.: the azimuthal distribution represented by function fm(b) on the plane parallel to the cathode surface, and the radial distribution fm(f) a as function of angle fc, with respect to the cathode plane. Both distributions are anisotropic and the structure of deposition layer depends on the angle of particles incident upon the substrate, the d. of particles flux and other factors.

• Wydawca: Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
• Czasopismo: Prace Naukowe Instytutu Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii Politechniki Wrocławskiej. Konferencje
• Rocznik: 2000
• Tom: Vol. 37, nr 12
• Strony: 197--202
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., tab. 1, rys. 3,

Twórcy

autor

Kutzner J.

autor

Stachowiak Z.

• Instytut Elektroenergetyki, Politechnika Poznańska, 60-965 Poznań