Surface layers produced by the PACVD method with the use of trimethylaluminum

• Autorzy: Sobiecki J.R. , Ossowski M. , Sitek R. , Wierzchoń T.

Warianty tytułu

PL

Wytwarzanie warstw powierzchniowych metodą PACVD z zastosowaniem trimetyloglinu

• Konferencja: Advanced Materials and Technologies, AMT'2004 : XVII Physical Metallurgy and Materials Science Conference (XVII; 20-24.06.2004; Łódź, Polska)
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The paper describes the processes that produce alumina oxide layers on titanium by the PACVD method with the use of trimethyloaluminum as the donor. By dosing the metal-organic compound at 400°C and oxidizing the Al coating being formed under glow discharge conditions at a temperature of the order of 550°C, we obtain a nano-crystalline AI2O3 layer. An increase in the glow discharge oxidizing temperature to about 600°C, enables the intermetallic phases of the Ti3Al type to be formed.

PL

W artykule omówiono procesy prowadzące do wytworzenia warstw tlenku glinu na tytanie metodą PACVD stosując jako donor glinu- trimetyloglin. Dozując związek metaloorganiczny w 400°C i utleniając w warunkach wyładowania jarzeniowego tworzącą się powłokę Al w temperaturze rzędu 55O°C uzyskuje się nanokrystaliczną warstwą Al2O3. Kolejne podwyższenie temperatury procesu utleniania jarzeniowego do około 600°C pozwala na wytworzenie faz międzymetalicznych typu TiAl3.

Słowa kluczowe

PL

warstwa powierzchniowa; metoda PACVD; trimetyloglin

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2004
• Tom: R. XXV, nr 3
• Strony: 659--661
• Opis fizyczny: Bibliogr. 16 poz., rys.

Twórcy

autor

Sobiecki J.R.

• Faculty of Materials Science and Engineering. Warsaw University of Technology, Warsaw

autor

Ossowski M.

• Faculty of Materials Science and Engineering. Warsaw University of Technology, Warsaw

autor

Sitek R.

• Faculty of Materials Science and Engineering. Warsaw University of Technology, Warsaw

autor

Wierzchoń T.

• Faculty of Materials Science and Engineering. Warsaw University of Technology, Warsaw

Bibliografia

• [1] Frederikson E., Carlsson J.-O, J.Chem Vap. Dep. l (1993) 333.
• [2] Lux B. , Colombier C., Altena H., Sternberg K., Thin Solid Films 138(1986)49.
• [3] Koh W., Ku S.-J., Kim Y., Chemical vapor deposition of A12O3 films using highly yolatile single sources, Thin Solid Films 304 (1997) 222.
• [4] Haanappel Y.A.C., Corbach H.D., Fransen T., Gellings P.J., Surface and Coatings Technology 72 (1995) 13.
• [5] Kwatera A., Sawka A., Proc. Conf. „New Materials and New Technologies in Ship Industry, Szczecin 10-13 09 1998 p. 343.
• [6] Schneider J.M., Sproul W.D., Matthes A., Reactive ionized magnetron sputtering of crystalline alumina coatings , Surf, Coat Technol. 98 (1998) 1473
• [7] Fietzke F., Goedicke K., Hempel W., The deposition of hard crystalline A12O3 layers by means of bipolar pulsed magnetron sputtering, Surf. Coat. Technol. 86/87 (1996) 657.
• [8] Taschner Ch., Ljungberg B., Endler I., Leonhard A., Deposition of hard crystalline A12O3 coatings by pulsed d.c. PACYD ,Surf. Coat. Technol. 116-119(1999)891.
• [9] Pradhan S.K., Reucroft P.J., Ko Y., Crystallinity of A12O3 films deposited by metalorganic chemical vapor deposition, Surf. Coat. Technol. 176(2004)384.
• [10] Meiners L.G., Thin Solid Films, 113 (1984) 85.
• [11] Kim Y.C., Park H.H., Chun J.S., W.J. Lee, Thin Solid Films, 237 (1994)57
• [12] Catherine Y., Talebian A., J. Electron Mater. 17(2) (1988) 127.
• [13] Pandę K.P., Nair Y.K.R., Gutierez D., J. Appl. Phys. 54 (9) (1983) 5436.
• [14] Ntsama-Etoundi M.C., Desmaison J., Tristant P., Tixier C., Remote microwave plasma enhanced chemical vapour deposition of alumina on metallic substrates, Surf. Coat. Technol. 120-121 (1999) 233.
• [15] Sobiecki J.R., Wierzchoń T., „Chromium and zirconium type layers produced from metalorganic compounds using the glow discharge conditions" Proc Int. Symp. EUROCYD 14, Paris 28.04-02.05 2003, 733-740.
• [16] Wierzchoń T., Sobiecki J.R., Mańkowski P., Trojanowski J. „Composite Layers Produced by Combining Nitriding and PACYD Processes Under Glow Discharge Conditions" Proc 3rd Int Conf Surface Engineering, October 10-13. 2002, Chengdu, China., 333- 337