Texture modifications in copper doped ceria thin films by pulsed laser deposition technique

• Autorzy: Chmielowska M. , Kopia A. , Kusiński J. , Leroux C. , Gavarri J.R.

Warianty tytułu

PL

Zmiany tekstury cienkich warstw CeO2 domieszkowanych miedzią wytworzonych techniką ablacji laserowej

• Konferencja: Advanced Materials and Technologies, AMT'2004 : XVII Physical Metallurgy and Materials Science Conference (XVII; 20-24.06.2004; Łódź, Polska)
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

CeO2 thin films doped with copper were elaborated by Pulsed Laser Deposition on Si (001) substrates, with variable deposition times and atomic fractions of Cu. The thin films were characterized by means of X-ray diffraction analysis, scanning, transmission and high-resolution electron microscopy, EDS microanalysis and. As deposition time or Cu content increase, the CuOx-CeO2 thin films showed texture modifications of ceria grains, with (111) grain orientations changing into (200) orientations. Chemical analysis showed that copper content in thin films was congruent with target compositions. However, no significant proportion of crystallized copper phase was evidenced. This can be correlated with the influence of copper phases on crystal growth of ceria during deposition process.

PL

Omówiono zmiany tekstury cienkich warstw CeO2 domieszkowanych miedzią, wytworzonych techniką ablacji laserowej na podłożu Si (001) przy różnym czasie ekspozycji i różnej zawartości procentowej miedzi. Wytworzone warstwy poddano badaniom na dyfraktometrze rentgenowskim, skaningowym i transmisyjnym mikroskopie elektronowym wyposażonym w analizator EDS. Wyniki dyfrakcyjnej analizy fazowej wykazały obecność w warstwie fazy CeO2 i brak linii od faz Cu lub CuOx, ponadto silne steksturowanie wytworzonych warstw wraz ze wzrostem udziału procentowego miedzi i czasu ekspozycji, o czym świadczy zmiana orientacji krystalograficznej z (111) na (200). Wyniki dyfrakcji elektronowej i jej rozwiązanie pozwala stwierdzić, iż w warstwach domieszkowana miedź występuje w postaci CuO i CuO2.

Słowa kluczowe

PL

tekstura; cienka warstwa; miedź; ablacja laserowa

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2004
• Tom: R. XXV, nr 3
• Strony: 561--563
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., tab., rys.

Twórcy

autor

Chmielowska M.

• University of Science and Technology, Cracow

autor

Kopia A.

• University of Science and Technology, Cracow

autor

Kusiński J.

• University of Science and Technology, Cracow

autor

Leroux C.

• University of South-Toulon-Var, La Gardę, France

autor

Gavarri J.R.

• University of South-Toulon-Var, La Gardę, France

• AGH University of Science and Technology, Cracow

Bibliografia

• [1] Taylor K. C., Catalysis, Science and Technology, eds. J.R. Andersen and M. Boudart, Springer Verlag, Berlin, 1984.
• [2] Tschope A., Liu W., Flytzani-Stephanopoulos M., Ying J. Y., Journal of Catal., 157 l (1995)42-50.
• [3] Trovarelli A. Catalysis Review-Science and Engineering, 38, 4 (1996) 439-520.
• [4] Trtik V., Aguiar R.,Sanchez F., Ferrater C., Varela M., Journal of Crystal Growth 192 (1998) 175-184.
• [5] Castel X., Guilloux-Viry M., Perrin A., Lesueur J., Lalu F., Journal of Crystal Growth 187 (1998) 211-220.
• [6] Tashiro J., Sasaki A., Akiba S., Satoh S., Watanabe T., Funakubo H., Yoshimoto M., Thin Solid Films 415, 1-2 (2002) 272-275.
• [7] Klimczak M., Kopia A., Chmielowski R., Kusiński J., Suliga I., Materials Chemistry and Physics 81 (2003) 558-561.
• [8] Klimczak-Chmielowska M., Chmielowski R., Kopia A., Kusiński J., Villain S., Leroux C., Gavarri J.R., Thin Solid Films, accepted for publication.