An application of the rate-of-rise measurement in the PECVD technology

• Autorzy: Rapiejko C. , Strojek M. , Gazicki-Lipman M.

Warianty tytułu

PL

Zastosowanie pomiarów rate-of-rise w technologii PECVD

• Konferencja: Advanced Materials and Technologies, AMT'2004 : XVII Physical Metallurgy and Materials Science Conference (XVII; 20-24.06.2004; Łódź, Polska)
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The rate-of-rise method consisting in the measurement of an increase of pressure for a system temporarily shut-off from a vacuum pump is based on the differentiated Clapeyron equation, where the differential dp/dt is proportional to the sum of the molar flow rates of all media supplying the gas phase. As long as the pressure increase is linear the derivative may be substituted with the value of delta(p)/delta(t). In addition, a utilization of a capacitive pressure transducer makes this method independent of the types of gases. In the present work different applications of this method in the processes of plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) are presented. They comprise testing the quality of the vacuum system, precise measurements of the flow rate of a minority vapour mixed with a carrier gas in a saturator, and finally flow rate measurements performed for mixtures of a carrier gas with different vapour combinations.

PL

Metoda rate-of-rise polegająca na pomiarze wzrostu ciśnienia w układzie tymczasowo odciętym od pomp próżniowych opiera się na zróżniczkowanym równaniu Clapeyrona, w którym pochodna dp/dt jest proporcjonalna do sumy przepływu molowego wszystkich mediów zasilających fazę gazową. Tak długo jak wzrost ciśnienia jest liniowy pochodne te zastąpić można wartością delta(p)/delta(t). Dodatkowo, wykorzystanie pojemnościowego miernika ciśnienia sprawia, że pomiar jest niezależny od rodzaju gazów. W niniejszej pracy zaprezentowano kilka zastosowań tej metody w procesach PECVD. Obejmują one kontrolę jakości systemów próżniowych, precyzyjne pomiary szybkości przepływu dla niskich zawartości par substancji czynnej w gazie nośnym oraz pomiary szybkości przepływów dla kombinacji par większej Iiczby substancji czynnych w gazie nośnym.

Słowa kluczowe

PL

pomiar ciśnienia; metoda rate-of-rise; PECVD

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2004
• Tom: R. XXV, nr 3
• Strony: 308--311
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., tab., rys.

Twórcy

autor

Rapiejko C.

• Insitute for Materials Science and Engineering, Technical University of Lodz, Lodz

autor

Strojek M.

• Insitute for Materials Science and Engineering, Technical University of Lodz, Lodz

autor

Gazicki-Lipman M.

• Insitute for Materials Science and Engineering, Technical University of Lodz, Lodz

Bibliografia

• [1] H. Yasuda, "Plasma Polymerization", Academic Press, Orlando 1985
• [2] S. Mitura, A. Mitura, P. Niedzielski, P. Couvrat, "Nanocrystalline Diamond Coatings in: Nanotechnology in Material Science" (Ed. S. Mitura), Elsevier, Amsterdam 2000
• [3] A. M. Wróbel, M. R. Wertheimer, Chapter 3 in: "Plasma Deposition, Treatment and Etching of Polymers" (Ed. R. d'Agostino), Academic Press, Boston 1992
• [4] M. Gazicki, "Plasma Deposition of Thin Carbon/Germanium Alloy Films from Organogermanium Compounds" in: Nanotechnology in Material Science (Ed. S. Mitura), Elsevier, Amsterdam 2000
• [5] Instruction Manuał MKS Mass Flow Meter & Flow Controller Models 258B/259B, 1258B/1259B, 2258B/2259B, MKS Instruments, Inc., Manuał 195-109500-A-1/85
• [6] M. Gazicki, H. Schalko, P. Svasek, F. Olcaytug, F. Kohl, J. Vac. Sci., Technol. A10(l), 51 (1992)
• [7] R. Brdićka, "Podstawy chemii fizycznej", PWN, Warszawa 1970
• [8] R. Zablotna, Buli. Poi. Acad. Sci. 14, 835 (1966)
• [9] L.A. Peacock and R.J. Fuchs, J. Am. Chem. Soc., 99, 5524 (1977)
• [10] J.P. Pedley and J. Rylance, J Sussex-N.P.L. "Computer Analyzed Thermochemical Data: Organie and Organometallic Compounds", University of Sussex, 1977
• [11] C. Rapiejko, M. Strojek, H. Szymanowski, L. Klimek, M. Gazicki- Lipman, submitted to Thin Solid Films