PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Preparation of new polyorganosiloxane acrylate and the properties of UV-cured acrylate compositions containing it

Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
PL
Otrzymywanie nowego akrylanu poliorganosiloksanowego i właściwości zawierających go kompozycji akrylanowych utwardzanych promieniowaniem UV
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
A new polyorganosiloxane acrylate (POSA) has been obtained as a result of Michael addition reaction of polyorganosiloxane modified with cyclohexylamine with methyl end groups (MCAPS) and hexanediol diacrylate (HDDA). 1H NMR and FT-IR methods confirmed the course of a reaction of N-H groups of MCAMPS with acrylic groups of HDDA. POSA has been used to modification of UV-cured epoxy-acrylic system (HDDA + butyl acrylate + epoxy-diacrylate resin). It has been stated that even small POSA content (1-1.5 wt. %) causes significant changes of surface properties of cured coatings. Namely, contact angle and its hysteresis increase, gloss decreases while final hardness does not change. Using XDS method it was showed that POSA selectively concentrated on the surface of cured coatings.
PL
W wyniku reakcji addycji Michaela z udziałem modyfikowanego cykloheksyloaminą poliorganosiloksanu z końcowymi grupami metylowymi (MCAPS) oraz diakrylanu heksanodiolu (HDDA) otrzymano nowy akrylan poliorganosiloksanowy - POSA [równanie (1)|. Metodami 1H NMR (rys. 1) oraz FT-IR potwierdzono przebieganie reakcji grup N-H MCAMPS z grupami akrylowymi HDDA. Związek ten użyto do modyfikacji układu epoksydowo-akrylowego (HDDA + akrylan butylu + żywica diakrylanowo-epoksydowa) utwardzanego pod wpływem promieniowania UV. Stwierdzono, że już niewielka zawartość POSA (1-1,5 % mas.) powoduje bardzo istotne zmiany właściwości powierzchniowych utwardzonych powłok. Mianowicie, zwiększa się kąt zwilżania (rys. 2) i jego histereza (rys. 4) oraz oporność powierzchniowa, maleje połysk (tabela 1), natomiast końcowa twardość nie ulega zmianie (rys. 5). Metodą rentgenograficzną (XDS) wykazano, że POSA koncentruje się selektywnie na powierzchni utwardzonych powłok (rys. 3).
Czasopismo
Rocznik
Strony
404--407
Opis fizyczny
Bibliogr. 13 poz., tab., rys.
Twórcy
autor
  • Chinese Academy of Sciences, Institute of Chemistry, Beijing 100080, People's Republic of China
autor
  • Chinese Academy of Sciences, Guangzhou Institute of Chemistry, Guangzhou 510650, People's Republic of China
autor
  • Chinese Academy of Sciences, Guangzhou Institute of Chemistry, Guangzhou 510650, People's Republic of China
autor
  • Chinese Academy of Sciences, Guangzhou Institute of Chemistry, Guangzhou 510650, People's Republic of China
Bibliografia
  • 1. Burak L.: J. Coat. Tech. November 1997, 69, No, 874, 29.
  • 2. Golden R.:J. Coat. Tech. 1997, 69, No. 871, 83. 3.
  • 3. Yu Q, Nauman §,, Santerre J. P., Zhu S. J. Appl. Polym, Sci. 2001, 82, 1107.
  • 4. Dvorehak M. J., Riberi B. H: J. Coat. Tech. 1992, 64, No. 808, 43,
  • 5. Decker Ch., Moussa K. J. Coat, Tech. 1993, 65, No. 819,49.
  • 6. Priow C., Soldat A., Cavezzan J J. Coat. Tech. 1995, 67,71
  • 7. Bongiovanni R,, Malucelli G., Messori M., Pilati F,, Priola A., Tonelli C,, Toselli M.: J. Appl. Polym. Sci. 2000, 75, 651
  • 8. Bowling K., Adams J., Struck S: J. Coat. Tech. 1996, 68, No, 854, 91.
  • 9. Idriss K, M,, Mubrak A. K,, Mokhlesur R,, Mahmuda G.: J. Appl. Polym. Sci. 1997, 66, 1997.
  • 10. Davidson R. S,, Ellis R,, Tudor S,, Wilkinson 5. A. Polymer 1992, 33, 3031.
  • 11. Batten R. J., Davidson R, S., Ellis R. J., Wilkinson S. A.: Polymer 1992, 33, 3037.
  • 12. Liu H,, Chen M., Zhang X., He'T., Wang Z.: Polimery 2004, 49, 168,
  • 13. Sun ¥.P,, Zheng C. R.: Re Gu Xing Shu Zhi 1999,3,16.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BPS2-0030-0108
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.