Chłodzony wodą zasilacz prądu stałego do zasilania magnetronu

• Autorzy: Gedroyć K. , Sobczuk D. , Zyskowski Ł. , Żelechowski M. , Jasiński M.

Warianty tytułu

EN

Water cooled DC power supply for magnetron

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule zaprezentowano nowe rozwiązanie przemysłowego układu zasilacza prądu stałego przystosowanego do zasilania magnetronu stosowanego w procesach napylania plazmowego. Prezentowane rozwiązanie cechują następujące oryginalne rozwiązania: układ kompensacji długości przewodów zasilających magnetron czy chłodzenie urządzenia wodą z wewnętrznym obiegiem powietrza. Przyjęte rozwiązania techniczne pozwoliły uzyskać doskonałe parametry użytkowe, małe gabaryty i masę urządzenia, a także długi czas życia zasilacza w trudnych warunkach przemysłowych.

EN

The paper presents new solution of power supplies which supply magnetron for plasma sputtering application. The presented solution has a number of such innovations as water-cooling and the CompensateLine circuit and cause the system has such advantages as small size, small weight and the possibility of the long use. Also a correct work was shown at voltage dip, and other parameters being located in a norm concerning the quality of the system work. These features of the presented power supply are essential at using in the photovoltaic industry as well as in other branches of industry, where is being used plasma sputtering.

Słowa kluczowe

PL

zasilacz prądu stałego; magnetron; napylanie plazmowe; ogniwo słoneczne

EN

DC power supply; magnetron; plasma sputtering; solar cell

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2012
• Tom: R. 88, nr 12a
• Strony: 43--48
• Opis fizyczny: Bibliogr. 14 poz., rys., rys.

Twórcy

autor

Gedroyć K.

autor

Sobczuk D.

autor

Zyskowski Ł.

autor

Żelechowski M.

autor

Jasiński M.

• Politechnika Warszawska, Instytut Sterowania i Elektroniki Przemysłowej, ul. Koszykowa 75, 00-622 Warszawa,

Bibliografia

• [1] Hosoda, S., Okumura, T., Jeong-ho Kim, Toyoda, K., Mengu Cho, Development of 400 V Solar Array Technology for Low Earth Orbit Plasma Environment, IEEE Transactions on Plasma Science, 34, (2006) nr 5, 1986-1996
• [2] Miernik K., Działanie i budowa magnetronowych urządzeń rozpylających. Radom, Wydawnictwo Instytutu Technologii Eksploatacji, (1997).
• [3] Groszkowski J., Zagadnienia próżni w nauce, technice i przemyśle. Warszawa, WNT, (1983)
• [4] Kong G., Liu Z., Wang D., Rong M., High-Current Vacuum Arc: The Relationship Between Anode Phenomena and the Average Opening Velocity of Vacuum Interrupters, IEEE Transactions on Plasma Science, 99, 1-9,
• [5] Belan P., Fundamental of Plasma Physics, Cambridge University Press, (2004).
• [6] Ozimek P., Glazek W., Obrebski K., Zyskowski L., Advantages of the new generation of superior arc management circuitry, HUETTINGER Electronic, in press.
• [7] Glazek W., Lach P., Ozimek P., Rozanski P., Zyskowski L, Why now DC is enough for so far pulsed DC handled processes - New technologies in DC non pulsed sputtering power supplies, HUETTINGER Electronic. May 25, 2011, Freiburg, Germany. Conference Proceedings
• [8] Millner A.R., "Power Electronics Topologies for Piasma Generators", IEEE International Symposium on Industrial Electronics. (2008)
• [9] Seung-Yo Lee, Jae-Seok Gho, Byoung-Hee Kang, Jun-Seok Cho, Analysis of Pulse Power Converter for Piasma Application, Industrial Electronics, 34, IECON 2008. (2008)
• [10] Mishima T., Ooue Y., Fukumoto Y., Nakaoka M., An Active Rectifier-Phase Shifted ZVS-PWM DC-DC Converter with HF Planar Transformer-Link for RF Piasma Power Generator, The 8th International Conference on Power Electronics and Drive Systems, Taipei, Taiwan, 2009.
• [11] Flisowski Z., Technika wysokich napięć. Warszawa, WNT, 1999.
• [12] Rawa H., Elektryczność i magnetyzm w technice. Warszawa, PWN, 2001.
• [13] Bugyi R., Ozimek P., Circuit and method for reducing electrical energy stored in a lead inductance for fast extinction of piasma arcs. European patent no. EP1 995 818 A1
• [14] Norma SEMI F47-0706 - Specification for Semiconductor Processing Eguipment Voltage Sag Immunity, 2006.