Kształtowanie jednorodnego rozkładu temperatury w półprzewodnikowych rezystancyjnych sensorach gazów w technologii LTCC

• Autorzy: Rydosz A. , Maziarz W. , Pisarkiewicz T.

Warianty tytułu

EN

Formation a uniform temperature distribution in semiconductors resistance gas sensors in LTCC technology

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Do poprawnego działania warstwy gazoczułej w półprzewodnikowych rezystancyjnych sensorach gazów konieczne jest zapewnienie odpowiedniej temperatury pracy - zazwyczaj w przedziale 250-450°C. Warstwa ta może wykazywać maksymalną odpowiedź na wybrane gazy dla różnych temperatur, stąd też konieczne staje się zapewnienie odpowiedniej temperatury i możliwie jednorodnego jej rozkładu. W pracy omówiono procesy wymiany ciepła, jakie należy uwzględnić przy projektowaniu podłoży sensorowych, przedstawiono wyniki symulacji i eksperymentu oraz wnioski.

EN

For effective gas-sensitive layer operation in semiconductor gas sensors the sensor working temperature of 250-450°C is required. The layer usually exhibits a maximum response to selected gases at different temperatures, hence it is necessary to ensure the appropriate temperature and its uniform distribution in the gas-sensitive layer. The paper discusses the processes of heat exchange to be considered during designing the sensor substrates, the results of simulations, experiment results and conclusions.

Słowa kluczowe

PL

czujniki gazu; rozkład temperatury; symulacje termiczne; technologia LTCC

EN

gas sensors; temperature distribution; thermal simulation; LTCC technology

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2011
• Tom: R. 87, nr 4
• Strony: 249--252
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys.

Twórcy

autor

Rydosz A.

autor

Maziarz W.

autor

Pisarkiewicz T.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Katedra Elektroniki, al. Mickiewicza 30, 30-059 Kraków,

Bibliografia

• [1] Solzbacher F., A new SiC/HfB2 based micro hotplate for metal oxide gas sensors, Rozprawa doktorska, TechnischeUniversitaet Ilmenau, Niemcy, (2003)
• [2] Maziarz W., Hajduk K., Pisarkiewicz T., The model of conductance response for temperature modulated metal oxide gas sensors, Proc. Eurosensors XIX, 11-14 VIII 2005, Barcelona, vol. II, s.78
• [3] Lienhard J.H. IV i Lienhared J.H. V, A heat transfer textbook, wyd. 3, Phlogiston Press Massachusetts, USA, (2003)
• [4] Pisarkiewicz T., Mikrosensory gazów, Uczelniane Wydawnictwa Naukowo-Dydaktyczne, Kraków (2007)
• [5] Pisarkiewicz T., Sutor A., Potempa P., Maziarz W., Thust H., Thelemann T., Microsensor based on low temperature cofired ceramics and gas-sensitive thin film, Thin Solid Films, 436 (2003) 84-89
• [6] Briand D., Courbat J., N.F. de Rooij, Manufacturing of MOX Gas Sensors: Towards Plastic Substrates? GSSMO GOSPEL-ISOCS Workshop, Tuebingen (2009)
• [7] Pisarkiewicz T., Maziarz W., Rydosz A., Mueller J., Mach M., Microsystem in LTCC technology for measurements of gas concentration in a sub-ppm range, Proc. Eurosensors XXIV, September 5-8, 2010, Linz, Austria