ICP enhanced reactive magnetron sputtering system for synthesis of alumina coatings

• Autorzy: Walkowicz J. , Zykov A. , Dudin S. , Yakovin S. , Brudnias R.

Warianty tytułu

PL

Układ reaktywnego rozpylania magnetronowego do osadzania powłok tlenku aluminium wspomagany wyładowaniem indukcyjnym RF

• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality aluminum oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, was introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional reactive sputtering techniques employing the injection of ground state molecular oxygen O2. Behaviour of deposition process characteristics were investigated with and without the activation of the reactive species.

PL

W artykule przedstawione są wyniki badań stałoprądowego magnetronowego układu rozpylającego do osadzania powłok tlenku aluminium. W prezentowanym układzie, w odróżnieniu od standardowych magnetronowych układów osadzania wykorzystujących tlen cząsteczkowy w podstawowym stanie energetycznym, do komory procesowej dostarczany był tlen wzbudzany do wyższych poziomów energetycznych w niezależnym źródle z indukcyjnym wyładowaniem RF. Zbadane zostały zmiany charakterystyk procesu osadzania, ze wzbudzaniem i bez wzbudzania składników reaktywnych.

Słowa kluczowe

EN

reactive magnetron sputtering; inductively coupled plasma; alumina coatings

PL

reaktywne rozpylanie magnetronowe; plazma wyładowania indukcyjnego; powłoki tlenku aluminium

• Wydawca: Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
• Czasopismo: Tribologia
• Rocznik: 2006
• Tom: nr 6
• Strony: 163--174
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz., rys.

Twórcy

autor

Walkowicz J.

autor

Zykov A.

autor

Dudin S.

autor

Yakovin S.

autor

Brudnias R.

• Institute for Sustainable Technologies – National Research Institute, ul. Pułaskiego 6/10, 26-600, Radom

Bibliografia

• 1. Dorre E., Hubner H. (Eds.): Alumina, Processing Properties and Applications, Springer, Berlin 1984.
• 2. Choli T.C., T Nieh.G., McAdams S.D.. Pharr G.M.: Scripta Metal. Mater. 25 (1991) 2203.
• 3. Ediou S.M., Smajkiewicz A., Al-Jumaily G.A.: Appl. Optics 32 (28) (1993) 5601.
• 4. Deshpandey C., Bunshah R.F.: Thin Solid Films. 163 (1988) 131.
• 5. M.Yu, I. Denysenko, S. Dudin, A. Zykov, N. Azarenkov, Phys. Plasmas 9 (2002) 11.
• 6. Zykov A.V., Dudin S.V., Yakovin S.D., Walkowicz J.: 10th Intl. Conf. On Plasma Physics and Controlled Fusion, Alushta, Ukraine, Book of Abstracts, p. 170, 2004.
• 7. Safi I.: Surface and Coatings Technology 135 (2000) 48].
• 8. Schütze A., Quito D.T.: Surface and Coatings Technology 162 (2003) 174.
• 9. Felmetsger V., Laptev P.: Vacuum 74 (2004) 403.
• 10. Sproul W.D., Christie D.J., Carter D.C.: Thin Solid Films 491 (2005) 1.